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公开(公告)号:CN119480577A
公开(公告)日:2025-02-18
申请号:CN202411542717.9
申请日:2024-10-31
Applicant: 厦门钨业股份有限公司
IPC: H01J9/04 , B22F3/14 , C22C27/04 , C22C1/05 , C22C1/059 , B22F3/00 , B22F1/12 , B22F3/23 , C22C32/00 , H01J1/148 , H01J61/06
Abstract: 本发明涉及照明技术领域,具体涉及一种近净成型六硼化镧掺杂钨阴极及其制备方法和应用。本发明提供一种近净成型六硼化镧掺杂钨阴极的制备方法,包括如下步骤:将钨粉和六硼化镧粉混合得到混合料,将混合料置于内壁涂有碳粉层的模具中,在第一温度下进行第一热压烧结,升温至第二温度进行第二热压烧结,得到所述近净成型六硼化镧掺杂钨阴极;其中,第一温度为1500‑2000℃;第二温度为2200‑2400℃。综上,本发明实现了六硼化镧掺杂钨阴极一次成型,开发了一种高效的、低成本的六硼化镧掺杂钨基阴极材料的制备方法,同时在六硼化镧掺杂钨阴极表面形成疏松片层状的碳化二钨层,有效提高材料的电子发射性能。
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公开(公告)号:CN119392248A
公开(公告)日:2025-02-07
申请号:CN202411502392.1
申请日:2024-10-25
Applicant: 厦门钨业股份有限公司
IPC: C23C26/00
Abstract: 本发明公开了在钨电极表面制备碳化二钨涂层的方法及钨电极,涉及钨电极技术领域。本发明分为附碳阶段、固碳阶段和脱碳阶段三个阶段制备碳化层,通过控制三个阶段的操作参数(如电压)等,固碳步骤可以进一步使表面富余的碳进一步反应,既能增加碳化层的厚度,又能更好地保证最终反应产物为碳化二钨,使钨电极表面制备组织结构和相成分均一稳定的碳化层。本发明所制备的碳化层为疏松的片层状组织,相结构为纯碳化二钨,为钨基热阴极材料表面提供发射活性物质迁移通道,促进阴极材料工作室活性物质的扩散补充,提升钨基阴极材料发射性能,同时更好地保障钨基阴极材料长期稳定工作。
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公开(公告)号:CN119092169A
公开(公告)日:2024-12-06
申请号:CN202411198236.0
申请日:2024-08-29
Applicant: 厦门钨业股份有限公司
IPC: G21F1/08 , G21B1/13 , C22C27/04 , B22F1/12 , B22F3/10 , B22F3/18 , B22F3/17 , B22F3/24 , B22F3/04
Abstract: 本发明公开了钨基合金材质的屏蔽件、制备方法及应用,所述钨基合金包括钨基体和分散在钨基体中的六硼化镧,所述钨基合金中硼元素的含量为0.01wt%‑0.5wt%。本发明中的钨基合金中引入六硼化镧,有利于钨基合金中钨晶粒的细化,增强钨基合金的韧性,降低韧脆转变温度,提高其对中子辐照的吸收能力;同时,六硼化镧的引入不仅不会降低钨基体的导热性能,反而有助于材料导热性能的提升,这些都有利于提高屏蔽件的使用寿命。
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