一种微型发光二极管的制备方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116581223A

    公开(公告)日:2023-08-11

    申请号:CN202310759388.2

    申请日:2023-06-26

    Abstract: 本发明提供一种微型发光二极管的制备方法,包括:图案蓝宝石衬底上制备n‑GaN/多量子阱MQW/p‑GaN层;台面图案化,蚀刻进行台面蚀刻以暴露n‑GaN;沉积SiO2层作为阻挡层;在SiO2阻挡层上溅射氧化铟锡ITO层;在p和n‑GaN区域分别蒸镀包含Al/Pt/Ti多层膜的第一金属层FML;沉积ALDAl2O3薄层作为内部防潮层,覆盖PECVDSiO2层和包含SiO2和Ti3O5叠层的布拉格反射器DBR;对DBR、SiO2和Al2O3层进行图案化和干法蚀刻,直到露出下面的FML;沉积Ti/Al/Ti/Au第二金属层SML作为p和n金属焊盘。本发明在miniLED内部利用原子层沉积致密、超薄的防潮薄膜,并同时提升光输出量。

Patent Agency Ranking