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公开(公告)号:CN119843202A
公开(公告)日:2025-04-18
申请号:CN202510027692.7
申请日:2025-01-08
Applicant: 厦门理工学院
Abstract: 本发明提供了一种改良的双腔锡滴喷射装置,涉及集成电路制造光刻设备技术领域。包括锡滴本体,所述锡滴本体包括加热腔以及适于与所述加热腔连通的喷射腔,所述加热腔与所述喷射腔之间设置有连通阀组件以自动控制所述加热腔与喷射腔的通断。通过采用两腔设计,将加热部分与喷射部分隔离开,既保证了整体的液态金属容量大,加热速度快,还进一步缩小了喷射部分的体积,使磁铁间距缩小,增强了磁力。
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公开(公告)号:CN222750893U
公开(公告)日:2025-04-15
申请号:CN202421548583.7
申请日:2024-07-02
Applicant: 厦门理工学院
IPC: A01C7/20
Abstract: 本实用新型提供了一种真空吸附的排种结构,涉及排种器技术领域。包括用于盛放种子的种盒,还包括:沿圆周方向设置有若干负压吸种部的吸种器,且所述吸种器连接有负压装置以在所述负压吸种部内产生负压;所述吸种器转动设置于所述种盒的一侧以使所述负压吸种部转动经过种盒时将种盒内的种子逐个吸附在负压吸种部处;所述吸种器内设置有堵孔组件,所述堵孔组件适于作用在吸种器下方以在负压吸种部转动经过时切断相应负压吸种部的负压,使得吸附在相应负压吸种部上的种子掉落。通过本方案可以提高对排种的效率,减少对种子的损伤。
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