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发明公开
一种二维材料的去溶剂无损精准转移方法审中-实审

公开(公告)号：CN119650414A

公开(公告)日：2025-03-18

申请号：CN202411824168.4

申请日：2024-12-12

Applicant: 厦门大学

Inventor： 袁丛辉 , 罗雨 , 戴李宗 , 罗德浩 , 陈国荣 , 罗伟昂

IPC: H01L21/02 , H01L21/683

Abstract: 本发明公开了一种二维材料的去溶剂无损精准转移方法，包括：将硅片用HMDS进行表面功能化；采用PMMA苯甲醚溶液对功能化的硅片进行旋涂并烘干形成PMMA支撑膜；采用热释放胶PDMS拾取PMMA支撑膜；将PDMS/PMMA转移至需转移的二维材料/第一衬底的表面，加热后PDMS与PMMA分离，PMMA覆盖在二维材料表面；通过蚀刻溶液的蚀刻，使PMMA/二维材料脱离第一衬底；用PDMS将脱离第一衬底的PMMA/二维材料捞起；将PMMA/二维材料转移至第二衬底；采用丙酮清洗掉PMMA并用氮气吹干，即成。本发明能够实现洁净、高效、精准地转移二维材料，能够避免二维材料对有机溶剂的不耐受性及有机溶剂的污染。

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