一种在低温条件下大批量制备高纯度M-N型单原子碳基催化剂的方法和应用

    公开(公告)号:CN114944494B

    公开(公告)日:2024-05-24

    申请号:CN202210616267.8

    申请日:2022-06-01

    Applicant: 厦门大学

    Abstract: 本发明公开了一种在低温条件下大批量制备高纯度M‑N型单原子碳基催化剂的方法,本发明首先制备了大小尺寸在150~400nm左右Zn‑ZIF菱形十二面体;在10%NH3和90%Ar气体环境中于700‑1000℃煅烧10min‑50min,然后将在惰性气氛中热处理70min‑110min,制备得到活性N‑C载体。第二步,采用溶液浸渍法或固体球磨法,将氯化金属盐分散吸附在第一步制备的活性N‑C载体中,然后在(惰性气氛和还原性气体)氩气和氢气混合气氛中(0%H2‑100%H2)中在300℃‑500℃温度下热处理2h‑6h,再随炉降温,得到最终催化剂。

    一种在低温条件下大批量制备高纯度M-N型单原子碳基催化剂的方法和应用

    公开(公告)号:CN114944494A

    公开(公告)日:2022-08-26

    申请号:CN202210616267.8

    申请日:2022-06-01

    Applicant: 厦门大学

    Abstract: 本发明公开了一种在低温条件下大批量制备高纯度M‑N型单原子碳基催化剂的方法,本发明首先制备了大小尺寸在150~400nm左右Zn‑ZIF菱形十二面体;在10%NH3和90%Ar气体环境中于700‑1000℃煅烧10min‑50min,然后将在惰性气氛中热处理70min‑110min,制备得到活性N‑C载体。第二步,采用溶液浸渍法或固体球磨法,将氯化金属盐分散吸附在第一步制备的活性N‑C载体中,然后在(惰性气氛和还原性气体)氩气和氢气混合气氛中(0%H2‑100%H2)中在300℃‑500℃温度下热处理2h‑6h,再随炉降温,得到最终催化剂。

    一种多孔凹形立方体CoNP@CoSA-N-C催化剂及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN112886030A

    公开(公告)日:2021-06-01

    申请号:CN202110035742.8

    申请日:2021-01-12

    Applicant: 厦门大学

    Abstract: 本发明公开了一种多孔凹形立方体CoNP@CoSA‑N‑C催化剂及其制备方法和应用,本发明首先制备了大小尺寸在200~400nm左右ZnCo‑ZIF立方体,然后在立方体ZnCo‑ZIF表面包覆介孔二氧化硅涂层,制备得到ZnCo‑ZIF@mSiO2纳米立方体;在惰性气体环境中于700‑1000℃煅烧,然后将二氧化硅层蚀刻掉以形成多孔凹形立方体Co单原子催化剂(CoSA‑N‑C)。第二步,采用有机金属气态升华掺杂法来提高金属含量,在CoSA‑N‑C碳基体上,首先将乙酰丙酮钴低温蒸发,然后捕集,再高温还原并稳定在CoSA‑N‑C碳基体上,最后合成高含量Co金属催化剂。同时生成包含高活性的Co纳米颗粒和Co‑N4复合位(CoNP@CoSA‑N‑C)。本发明极大提高了催化剂的活性。

    一种多孔凹形立方体CoNP@CoSA-N-C催化剂及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN112886030B

    公开(公告)日:2022-01-11

    申请号:CN202110035742.8

    申请日:2021-01-12

    Applicant: 厦门大学

    Abstract: 本发明公开了一种多孔凹形立方体CoNP@CoSA‑N‑C催化剂及其制备方法和应用,本发明首先制备了大小尺寸在200~400nm左右ZnCo‑ZIF立方体,然后在立方体ZnCo‑ZIF表面包覆介孔二氧化硅涂层,制备得到ZnCo‑ZIF@mSiO2纳米立方体;在惰性气体环境中于700‑1000℃煅烧,然后将二氧化硅层蚀刻掉以形成多孔凹形立方体Co单原子催化剂(CoSA‑N‑C)。第二步,采用有机金属气态升华掺杂法来提高金属含量,在CoSA‑N‑C碳基体上,首先将乙酰丙酮钴低温蒸发,然后捕集,再高温还原并稳定在CoSA‑N‑C碳基体上,最后合成高含量Co金属催化剂。同时生成包含高活性的Co纳米颗粒和Co‑N4复合位(CoNP@CoSA‑N‑C)。本发明极大提高了催化剂的活性。

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