基于全息干涉术的光子晶体制造装置

    公开(公告)号:CN102798930B

    公开(公告)日:2014-08-27

    申请号:CN201210332492.5

    申请日:2012-09-07

    Applicant: 厦门大学

    Abstract: 基于全息干涉术的光子晶体制造装置,涉及光子晶体制造装置。依次设有激光器、空间滤波器、全息光学元件、1/2波片和光刻胶板;激光器发出的激光经过空间滤波器的扩束后照射到全息光学元件上,经全息光学元件产生四束相干的干涉光束,1/2波片置于全息光学元件的其中1个出光口之后,入射1/2波片的线偏振光的振动方向与1/2波片晶体表面光轴间的角度为设定值,四束光重叠射在光刻胶板上,在光刻胶板上对四束光重叠的干涉结构进行单次曝光,经显影流程得大面积周期性间隙阵列结构的光子晶体。所述入射1/2波片的线偏振光的振动方向与1/2波片晶体表面光轴间的角度的设定值为15°~23.5°。

    一种三维非对称金属-介质功能纳米阵列结构的制备方法

    公开(公告)号:CN114014258B

    公开(公告)日:2024-05-07

    申请号:CN202111240171.8

    申请日:2021-10-25

    Abstract: 本发明公开了一种三维非对称金属‑介质功能纳米阵列结构的制备方法,该制备方法包括以下步骤:S1在样品硅片上制备聚苯乙烯小球阵列;S2刻蚀聚苯乙烯小球阵列;S3刻蚀样品硅片;S4倾斜镀金属膜;S5揭去聚苯乙烯小球。该制备方法能够解决现有纳米结构加工领域中三维结构难以大面积制备且制备流程复杂的问题,从而达到便于大面积制备,制备产品均匀性好、多参数可调,制备的结构有着显著的表面等离激元光放大及非线性增强效应,SHG信号相较于其对称结构的SHG信号增强可达五倍左右,并具有优异的偏振依赖特性,制备成本低廉,且采用硅片为样品基底,为未来运用于微电子行业产业化提供了可能的目的。

    制造三维密排光子晶体阵列结构的全息系统

    公开(公告)号:CN103092004A

    公开(公告)日:2013-05-08

    申请号:CN201310019880.2

    申请日:2013-01-18

    Applicant: 厦门大学

    Abstract: 制造三维密排光子晶体阵列结构的全息系统,涉及光子晶体阵列结构。提供一种结构简单、可操作性强、可获得三维密排晶体阵列结构的制造三维密排光子晶体阵列结构的全息系统。从左至右依次设有激光器、空间滤波器、全息光学元件、1/2波片和光刻胶板;所述激光器、空间滤波器、全息光学元件、1/2波片和光刻胶板设于同一光轴上,激光器发出的激光经过空间滤波器的扩束后照射到全息光学元件上,经全息光学元件产生4束相干的干涉光束,1/2波片置于全息光学元件的中央出光口之后,4束光重叠干涉在光刻胶板上,在光刻胶板上对4束光重叠的干涉结构进行单次曝光,经过显影的流程即可得到拥有三维密排晶格阵列结构的光子晶体。

    一种三维非对称金属-介质功能纳米阵列结构的制备方法

    公开(公告)号:CN114014258A

    公开(公告)日:2022-02-08

    申请号:CN202111240171.8

    申请日:2021-10-25

    Abstract: 本发明公开了一种三维非对称金属‑介质功能纳米阵列结构的制备方法,该制备方法包括以下步骤:S1在样品硅片上制备聚苯乙烯小球阵列;S2刻蚀聚苯乙烯小球阵列;S3刻蚀样品硅片;S4倾斜镀金属膜;S5揭去聚苯乙烯小球。该制备方法能够解决现有纳米结构加工领域中三维结构难以大面积制备且制备流程复杂的问题,从而达到便于大面积制备,制备产品均匀性好、多参数可调,制备的结构有着显著的表面等离激元光放大及非线性增强效应,SHG信号相较于其对称结构的SHG信号增强可达五倍左右,并具有优异的偏振依赖特性,制备成本低廉,且采用硅片为样品基底,为未来运用于微电子行业产业化提供了可能的目的。

    基于全息干涉术的光子晶体制造装置

    公开(公告)号:CN102798930A

    公开(公告)日:2012-11-28

    申请号:CN201210332492.5

    申请日:2012-09-07

    Applicant: 厦门大学

    Abstract: 基于全息干涉术的光子晶体制造装置,涉及光子晶体制造装置。依次设有激光器、空间滤波器、全息光学元件、1/2波片和光刻胶板;激光器发出的激光经过空间滤波器的扩束后照射到全息光学元件上,经全息光学元件产生四束相干的干涉光束,1/2波片置于全息光学元件的其中1个出光口之后,入射1/2波片的线偏振光的振动方向与1/2波片晶体表面光轴间的角度为设定值,四束光重叠射在光刻胶板上,在光刻胶板上对四束光重叠的干涉结构进行单次曝光,经显影流程得大面积周期性间隙阵列结构的光子晶体。所述入射1/2波片的线偏振光的振动方向与1/2波片晶体表面光轴间的角度的设定值为15°~23.5°。

    一种制造三维密排光子晶体阵列结构的全息系统

    公开(公告)号:CN203012351U

    公开(公告)日:2013-06-19

    申请号:CN201320028671.X

    申请日:2013-01-18

    Applicant: 厦门大学

    Abstract: 一种制造三维密排光子晶体阵列结构的全息系统,涉及光子晶体阵列结构。提供一种结构简单、可操作性强、可获得三维密排晶体阵列结构的制造三维密排光子晶体阵列结构的全息系统。从左至右依次设有激光器、空间滤波器、全息光学元件、1/2波片和光刻胶板;所述激光器、空间滤波器、全息光学元件、1/2波片和光刻胶板设于同一光轴上,激光器发出的激光经过空间滤波器的扩束后照射到全息光学元件上,经全息光学元件产生4束相干的干涉光束,1/2波片置于全息光学元件的中央出光口之后,4束光重叠干涉在光刻胶板上,在光刻胶板上对4束光重叠的干涉结构进行单次曝光,经过显影的流程即可得到拥有三维密排晶格阵列结构的光子晶体。

    一种基于全息干涉术的光子晶体制造装置

    公开(公告)号:CN202794592U

    公开(公告)日:2013-03-13

    申请号:CN201220456025.9

    申请日:2012-09-07

    Applicant: 厦门大学

    Abstract: 一种基于全息干涉术的光子晶体制造装置,涉及光子晶体制造装置。依次设有激光器、空间滤波器、全息光学元件、1/2波片和光刻胶板;激光器发出的激光经过空间滤波器的扩束后照射到全息光学元件上,经全息光学元件产生四束相干的干涉光束,1/2波片置于全息光学元件的其中1个出光口之后,入射1/2波片的线偏振光的振动方向与1/2波片晶体表面光轴间的角度为设定值,四束光重叠射在光刻胶板上,在光刻胶板上对四束光重叠的干涉结构进行单次曝光,经显影流程得大面积周期性间隙阵列结构的光子晶体。所述入射1/2波片的线偏振光的振动方向与1/2波片晶体表面光轴间的角度的设定值为15°~23.5°。

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