一种基于shifrin变换的粒径分布测量方法

    公开(公告)号:CN103868832A

    公开(公告)日:2014-06-18

    申请号:CN201410119699.3

    申请日:2014-03-27

    Applicant: 南通大学

    Abstract: 本发明涉及一种基于shifrin变换的粒径分布测量方法,对粒径分布进行反演时引入带可调节参数的补偿因子,在不同参数下反演的噪声均基本消失,且分布峰的位置及个数均与标称较为吻合。通过选择调节参数,可以明显改善已有方法在某些情况下反演效果不佳的缺陷。本发明方法的提出,不仅解决了激光粒度测量中噪声大的问题,而且可针对实际测量中的不同情况,改变调节参数,达到更佳的反演测量效果。

    一种基于shifrin变换的粒径分布测量方法

    公开(公告)号:CN103868832B

    公开(公告)日:2015-10-21

    申请号:CN201410119699.3

    申请日:2014-03-27

    Applicant: 南通大学

    Abstract: 本发明涉及一种基于shifrin变换的粒径分布测量方法,对粒径分布进行反演时引入带可调节参数的补偿因子,在不同参数下反演的噪声均基本消失,且分布峰的位置及个数均与标称较为吻合。通过选择调节参数,可以明显改善已有方法在某些情况下反演效果不佳的缺陷。本发明方法的提出,不仅解决了激光粒度测量中噪声大的问题,而且可针对实际测量中的不同情况,改变调节参数,达到更佳的反演测量效果。

Patent Agency Ranking