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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118832085A
公开(公告)日：2024-10-25
申请号：CN202411182041.7
申请日：2024-08-27
Applicant: 南昌大学
Abstract: 本发明涉及引脚剪切技术领域，尤其为一种电子元器件引脚剪切成形装置，包括左右两侧的两个底板，所述底板的顶端固定连接有支撑杆，所述支撑杆的顶端转动连接有前转盘，所述前转盘的底端固定连接有U型杆，所述U型杆的另一侧顶端固定连接有后转盘，所述前转盘和后转盘的轴线处在同一条直线上，本发明不仅能够实现多个引脚的同时裁切，调整裁剪的长度，增加裁切的效率，还能够保证上切刀和下切刀在在不同角度引脚上的垂直剪切，还可以做到上切刀和下切刀同时同步的对引脚进行剪切，能够有效的避免剪切力在引脚切面处的分配不均匀，从而造切切面附近处应力不均匀出现弯曲的现象，减少甚至避免多个引脚切面处的弯曲会使焊点不在一个平面上。
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公开(公告)号：CN118980322B
公开(公告)日：2025-03-04
申请号：CN202411455340.3
申请日：2024-10-18
Applicant: 南昌大学
Abstract: 本发明公开了一种基于超振荡光场实现紧凑型纳米级位移计量的方法，包括：将入射径向偏振光照射到超振荡透镜产生超振荡纳米尺度光场；超振荡纳米尺度光场与硅散射体相互作用产生散射光；将散射体沿不同方向的纳米尺度位移，每移动一次，CCD相机收集一次前向散射光场；利用超振荡纳米尺度光场的散射信号探测纳米尺度散射体的位移情况。本发明的装置不依赖于大尺寸的物镜，超振荡透镜具有微米级轻薄厚度，同时可产生超越衍射极限的光斑，具有较优的集成能力和探测精度；引入方向性指数参数IDX和IDY与散射体实际进行的纳米尺度位移进行参数化建模，使得散射体的位移情况得到重建，对工业生产检验纳米微器件是否偏离预定安装位置具有重大应用价值。
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公开(公告)号：CN118914664B
公开(公告)日：2025-02-07
申请号：CN202411121882.7
申请日：2024-08-15
Applicant: 南昌大学
Abstract: 本发明涉及导电滑环测试技术领域，具体为一种用于导电滑环的测试系统及方法，包括底板，所述底板的上方设有安装机构，所述安装机构的表面安装有用于驱动滑环转子、滑环定子转动的旋转机构；所述安装机构包括固定转盘与活动转盘，固定转盘与滑环定子连接，活动转盘与滑环转子连接。所述固定转盘与所述活动转盘的相斥一侧中部均固定连接有滑轨，所述滑轨的内侧壁滑动连接有T形块，所述T形块的一侧安装有连接组件，所述连接组件的外侧壁底部铰接有传动杆。本发明能够在测试导电滑环电阻的过程中，通过改变滑环定子与滑环转子之间的转动状态，可测出导电滑环在多种状态下的电阻，更加贴合实际使用中可能遇到的情况。
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公开(公告)号：CN118980322A
公开(公告)日：2024-11-19
申请号：CN202411455340.3
申请日：2024-10-18
Applicant: 南昌大学
Abstract: 本发明公开了一种基于超振荡光场实现紧凑型纳米级位移计量的方法，包括：将入射径向偏振光照射到超振荡透镜产生超振荡纳米尺度光场；超振荡纳米尺度光场与硅散射体相互作用产生散射光；将散射体沿不同方向的纳米尺度位移，每移动一次，CCD相机收集一次前向散射光场；利用超振荡纳米尺度光场的散射信号探测纳米尺度散射体的位移情况。本发明的装置不依赖于大尺寸的物镜，超振荡透镜具有微米级轻薄厚度，同时可产生超越衍射极限的光斑，具有较优的集成能力和探测精度；引入方向性指数参数IDX和IDY与散射体实际进行的纳米尺度位移进行参数化建模，使得散射体的位移情况得到重建，对工业生产检验纳米微器件是否偏离预定安装位置具有重大应用价值。
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公开(公告)号：CN118914664A
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202411121882.7
申请日：2024-08-15
Applicant: 南昌大学
Abstract: 本发明涉及导电滑环测试技术领域，具体为一种用于导电滑环的测试系统及方法，包括底板，所述底板的上方设有安装机构，所述安装机构的表面安装有用于驱动滑环转子、滑环定子转动的旋转机构；所述安装机构包括固定转盘与活动转盘，固定转盘与滑环定子连接，活动转盘与滑环转子连接。所述固定转盘与所述活动转盘的相斥一侧中部均固定连接有滑轨，所述滑轨的内侧壁滑动连接有T形块，所述T形块的一侧安装有连接组件，所述连接组件的外侧壁底部铰接有传动杆。本发明能够在测试导电滑环电阻的过程中，通过改变滑环定子与滑环转子之间的转动状态，可测出导电滑环在多种状态下的电阻，更加贴合实际使用中可能遇到的情况。
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