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公开(公告)号：CN117374174A
公开(公告)日：2024-01-09
申请号：CN202311373216.8
申请日：2023-10-23
Applicant: 南开大学
IPC: H01L33/00
Abstract: 本发明涉及Micro‑LED芯片显示、Micro‑LED芯片制造领域，公开了一种巨量转移Micro‑LED芯片的工作系统及其工作方法，提出用微轴锥镜阵列产生的高均匀性光束阵列作为巨量转移的转印头光源，微轴锥镜阵列产生的贝塞尔光束阵列在照射转移头时吸收光产生电荷，将转移头接近源基板形成电子‑空穴对，实现对Micro‑LED芯片的精准吸附、抓取，使得Micro‑LED芯片与目标基板行物理接触并粘合至目标基板，实现Micro‑LED芯片高效转移、可靠键合。既满足了时效性，保证了极高的准确率，简化了现有技术中的复杂工序，提高效率，节约成本。
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公开(公告)号：CN118151397A
公开(公告)日：2024-06-07
申请号：CN202410055115.4
申请日：2024-01-15
Applicant: 南开大学
Abstract: 本发明公开了一种变高的、多层的、线性凹陷的轴锥孔结构。该结构是以斯涅尔定律、衍射元件设计原理以及光的折射定律为基础，对不同结构层的高度进行计算，实现各层高度由内向外逐渐降低的形态特征。平面波垂直入射，经过结构完成光束整形，形成外环局域能量占总能量90%以上、具有空心特性的光束。对该器件进行光束的偏振化处理，可以用来产生涡旋光束；此外该器件也可以用于粒子操纵、光学成像等领域，具有广泛的应用场景。
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公开(公告)号：CN116430596A
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN202310121651.5
申请日：2023-02-16
Applicant: 南开大学
Abstract: 一种高度变化的共焦、匀光的微光学器件。该光学器件由变高的轴对称线性周期微直三棱柱结构构成，将中心微直三棱柱的工作距离定为器件工作距离，经过对线性周期微直三棱柱结构的工作距离和其高度关系的求解，建立高度变化通式后，通过改变线性周期微三棱柱结构的高度，当入射光垂直于器件底面入射并通过该器件之后，可达到共焦效果，且能量明显集中，最大强度随结构的扩增而成倍提高。本发明在聚焦微纳光学器件设计、光束整形和高深宽比微槽测量技术领域具有重要的应用价值和应用前景。并且其产生的X波在光学信息处理和传输以及触摸屏的检测领域具有很好的应用前景。
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