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发明公开
一种用于基因测序双层孔结构纳米压印模板制造及压印方法审中-实审

公开(公告)号：CN118276402A

公开(公告)日：2024-07-02

申请号：CN202410339198.X

申请日：2024-03-25

Applicant: 南开大学

Inventor： 罗锋 , 张一弛 , 李长亮

IPC: G03F7/00 , G03F7/20 , G03F7/16 , G03F7/30 , B82Y40/00

Abstract: 一种用于基因测序双层孔结构纳米压印模板制造及压印方法，涉及纳米器件制造技术领域。主要包括以下步骤：1.在硅片表面镀一层金属硬掩模；2.激光直写灰度曝光得到双层结构；3.刻蚀金属，将下层结构转移到金属层中；4.深硅刻蚀，将下层结构刻入硅中；5.残胶去除，在胶层中去除下层结构；6.刻蚀金属，将上层结构转移到金属层中；7.深硅刻蚀，将上层结构刻入硅中；8.去除金属层和残胶，清洗模板；9.电镀制备金属工作模具；10.利用紫外光固化压印完成结构。本方法提供的整套工艺可以降低此类结构制造成本，避免双层结构套刻误差，提高结构的设计灵活性。

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