公开(公告)号：CN111863624B

公开(公告)日：2022-06-17

申请号：CN202010537844.5

申请日：2020-06-12

Applicant: 南开大学

Inventor： 朱剑 ,  高香香 ,  尹君 ,  卞刚

IPC: H01L21/368 ,  H01L29/24 ,  H01L29/786 ,  H01L21/34

Abstract: 本发明属二维半导体薄膜制备技术领域，具体涉及一种二维材料半导体薄膜的大规模制备及图案化方法，包括如下步骤：基板预处理；在预处理后的基板上用负胶光刻目标图案；在带有光刻胶图案的基板上用溶液自组装技术制备二维半导体薄膜：基板首先浸泡在聚二烯丙基二甲基氯化铵水溶液，然后浸泡在MoS2水溶液中，这个过程可多次重复；将基板上得到的薄膜在丙酮中浸泡去除光刻胶，最终得到目标MoS2图案。本发明的有益效果在于制备方法简单，可以在任何基板上操作；薄膜厚度可控，而且可以实现图案化；反应条件温和，在高性能二维半导体薄膜电子器件领域具有广阔的应用空间。

公开(公告)号：CN111863624A

公开(公告)日：2020-10-30

申请号：CN202010537844.5

申请日：2020-06-12

Applicant: 南开大学

Inventor： 朱剑 ,  高香香 ,  尹君 ,  卞刚

IPC: H01L21/368 ,  H01L29/24 ,  H01L29/786 ,  H01L21/34

Abstract: 本发明属二维半导体薄膜制备技术领域，具体涉及一种二维材料半导体薄膜的大规模制备及图案化方法，包括如下步骤：基板预处理；在预处理后的基板上用负胶光刻目标图案；在带有光刻胶图案的基板上用溶液自组装技术制备二维半导体薄膜：基板首先浸泡在聚二烯丙基二甲基氯化铵水溶液，然后浸泡在MoS2水溶液中，这个过程可多次重复；将基板上得到的薄膜在丙酮中浸泡去除光刻胶，最终得到目标MoS2图案。本发明的有益效果在于制备方法简单，可以在任何基板上操作；薄膜厚度可控，而且可以实现图案化；反应条件温和，在高性能二维半导体薄膜电子器件领域具有广阔的应用空间。