托卡马克第一壁材料激光刻蚀系统及刻蚀深度标定方法

    公开(公告)号:CN113983948A

    公开(公告)日:2022-01-28

    申请号:CN202111243834.1

    申请日:2021-10-25

    Applicant: 南华大学

    Abstract: 托卡马克第一壁材料激光刻蚀系统及刻蚀深度标定方法,涉及核聚变装置技术领域。托卡马克第一壁材料激光刻蚀系统,包括真空装置、刻蚀装置和观测装置;真空装置包括真空气氛腔室、真空泵组和真空规;刻蚀装置包括刻蚀平台、光纤激光器和主控电脑。托卡马克第一壁材料刻蚀深度标定方法,步骤如下:预处理;离子注入;获取烧蚀前的13C离子浓度分布情况;激光刻蚀;计算激光刻蚀深度;获取激光刻蚀后的13C离子浓度分布情况;建立13C离子浓度与刻蚀深度对应关系的数据库。本发明将示踪元素13C用于托卡马克第一壁材料腐蚀深度的标定,为在线测量托卡马克第一壁材料的腐蚀深度提供了切实可行的方案。

    托卡马克第一壁材料激光刻蚀系统及刻蚀深度标定方法

    公开(公告)号:CN113983948B

    公开(公告)日:2023-08-18

    申请号:CN202111243834.1

    申请日:2021-10-25

    Applicant: 南华大学

    Abstract: 托卡马克第一壁材料激光刻蚀系统及刻蚀深度标定方法,涉及核聚变装置技术领域。托卡马克第一壁材料激光刻蚀系统,包括真空装置、刻蚀装置和观测装置;真空装置包括真空气氛腔室、真空泵组和真空规;刻蚀装置包括刻蚀平台、光纤激光器和主控电脑。托卡马克第一壁材料刻蚀深度标定方法,步骤如下:预处理;离子注入;获取烧蚀前的13C离子浓度分布情况;激光刻蚀;计算激光刻蚀深度;获取激光刻蚀后的13C离子浓度分布情况;建立13C离子浓度与刻蚀深度对应关系的数据库。本发明将示踪元素13C用于托卡马克第一壁材料腐蚀深度的标定,为在线测量托卡马克第一壁材料的腐蚀深度提供了切实可行的方案。

Patent Agency Ranking