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公开(公告)号:CN118248766A
公开(公告)日:2024-06-25
申请号:CN202410400757.3
申请日:2024-04-03
Applicant: 南京邮电大学
IPC: H01L31/112 , H01L31/0304 , H01L31/101 , H01L31/0224 , H01L31/18
Abstract: 本发明公开了一种叉指型环形栅AlGaN/GaN HEMT结构的双面紫外光探测器,其结构从下往上依次包括:硅衬底层、AlGaN背势垒层、高阻GaN缓冲层、u‑GaN沟道层、AlGaN势垒层、GaN帽层;探测器在有源区侧壁采用绝缘物进行保护,源极金属层和漏极金属层以叉指型分布方式交错排列在GaN帽层上,利用钝化物对器件进行钝化处理,通过对硅衬底层、AlGaN背势垒层、高阻GaN缓冲层和部分的u‑GaN沟道层进行刻蚀处理,暴露出u‑GaN沟道层,实现对紫外光的双面探测。本发明中叉指型源漏电极和环形栅结构的引入,降低了器件的导通电阻,提高了欧姆接触性能,显著增大了器件的有效感光面积,使得探测器对光信号的灵敏度大幅提升,从而更有效地捕获光子,提高了探测器的响应能力。
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公开(公告)号:CN118263380A
公开(公告)日:2024-06-28
申请号:CN202410366129.8
申请日:2024-03-28
Applicant: 南京邮电大学
Abstract: 本发明涉及信息材料和可见光通信技术领域,公开了一种异质集成梳齿MEMS调控应力的GaN基多量子阱光电子芯片,将经过刻蚀的SOI片与倒置的GaN基LED器件进行金—金键合,键合后进行背面刻蚀,使得LED器件和部分MEMS器件悬空。悬空后的结构可以通过控制MEMS引起光电子芯片的形变,使光电子芯片内部产生应力变化。再利用拉曼光谱等手段监测应力变化范围及过程,可用于研究不同应力、不同偏压条件下光电子芯片的出射光谱和探测光谱等参数。本发明首先在SOI片上制备MEMS器件,然后蒸镀电极,利用金‑金键合技术将将MEMS器件和GaN基多量子阱晶圆进行键合,在GaN基多量子阱晶圆上进行LED器件的制备,最后背面刻蚀使得器件悬空,实现对GaN基多量子阱光电子芯片进行应力调控。
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