一种半透明薄膜电极及其制备方法

    公开(公告)号:CN112397314B

    公开(公告)日:2022-07-01

    申请号:CN202011161627.7

    申请日:2020-10-27

    Abstract: 本发明公开了一种半透明薄膜电极及其制备方法,该制备方法包括以下步骤:S1:按一定比例称取半导体纳米材料和透光性材料,在超声的条件下分散于有机溶剂中,获得混合均匀的胶状悬浮液;S2:将悬浮液均匀的涂覆在透明导电基底上,制成厚度均匀的薄膜,之后置于压片机下在1‑100MPa的压力下压制成半透明薄膜,得到具有半透明薄膜的电极。本发明提供了一种操作简单、适用于在常温下且能够大面积制备半透明电极的方法,能够有效的避免能源的浪费,降低制作成本。且所制备的电极能同时适用于DSSC和PEC电池应用中。

    一种超薄氧化物修饰的半导体电极及其制备方法

    公开(公告)号:CN115083787B

    公开(公告)日:2024-09-10

    申请号:CN202210716977.8

    申请日:2022-06-23

    Inventor: 曹大鹏 王岸晨

    Abstract: 本发明公开了一种超薄氧化物修饰的半导体电极的制备方法,并将该电极应用于光电化学转化器件中。该制备方法包括以下步骤:S1:首先在导电基底上运用电泳法或滴涂法制备半导体薄膜;S2:取一定量的金属源,溶于溶剂中,配制成为前驱溶液;S3:将S2制备的溶液滴涂、旋涂或浸涂在S1制备的薄膜上;S4:在S3基础上进行氧等离子体(plasma)处理。本发明提供了一种操作简单、制备时间短、可大规模生产的超薄氧化物薄膜的制备方法,而且该超薄氧化物薄膜可以大幅提升光电化学(PEC)分解水性能,降低光催化产氢产氧成本,具有很好的应用前景。

    一种超薄氧化物修饰的半导体电极及其制备方法

    公开(公告)号:CN115083787A

    公开(公告)日:2022-09-20

    申请号:CN202210716977.8

    申请日:2022-06-23

    Inventor: 曹大鹏 王岸晨

    Abstract: 本发明公开了一种超薄氧化物修饰的半导体电极的制备方法,并将该电极应用于光电化学转化器件中。该制备方法包括以下步骤:S1:首先在导电基底上运用电泳法或滴涂法制备半导体薄膜;S2:取一定量的金属源,溶于溶剂中,配制成为前驱溶液;S3:将S2制备的溶液滴涂、旋涂或浸涂在S1制备的薄膜上;S4:在S3基础上进行氧等离子体(plasma)处理。本发明提供了一种操作简单、制备时间短、可大规模生产的超薄氧化物薄膜的制备方法,而且该超薄氧化物薄膜可以大幅提升光电化学(PEC)分解水性能,降低光催化产氢产氧成本,具有很好的应用前景。

    一种半透明薄膜电极及其制备方法

    公开(公告)号:CN112397314A

    公开(公告)日:2021-02-23

    申请号:CN202011161627.7

    申请日:2020-10-27

    Abstract: 本发明公开了一种半透明薄膜电极及其制备方法,该制备方法包括以下步骤:S1:按一定比例称取半导体纳米材料和透光性材料,在超声的条件下分散于有机溶剂中,获得混合均匀的胶状悬浮液;S2:将悬浮液均匀的涂覆在透明导电基底上,制成厚度均匀的薄膜,之后置于压片机下在1‑100MPa的压力下压制成半透明薄膜,得到具有半透明薄膜的电极。本发明提供了一种操作简单、适用于在常温下且能够大面积制备半透明电极的方法,能够有效的避免能源的浪费,降低制作成本。且所制备的电极能同时适用于DSSC和PEC电池应用中。

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