一种基于泄露辐射成像在ccd靶面与安装定位面夹角误差的校准方法及装置

    公开(公告)号:CN108956571B

    公开(公告)日:2023-12-15

    申请号:CN201810843800.8

    申请日:2018-07-27

    Abstract: 本发明公开了一种基于泄露辐射成像在ccd靶面与安装定位面夹角误差的校准方法及装置,包括:照明光源,待测荧光物质,含金属层芯片基底,折射率匹配油,显微物镜,反射镜,偏振元件组,滤光片,聚束透镜,水平滑轨,成像透镜,ccd图像传感器。荧光样品在被照明光源辐照后,产生荧光表面等离激元波并泄露辐射通过含金属层芯片基底,在被显微物镜收集信号后实现荧光成像。期间,照明光源发出的激发光由偏振元件组和滤光片过滤。通过移动成像透镜的位置,提出泄露辐射霍夫变换算法对ccd图像传感器靶面进行检测,完成常规手段不易发现的ccd靶面与安装定位面夹角误差的精确校准。本发明结构简单,适用性强。

    一种基于泄露辐射成像在ccd靶面与安装定位面夹角误差的校准方法及装置

    公开(公告)号:CN108956571A

    公开(公告)日:2018-12-07

    申请号:CN201810843800.8

    申请日:2018-07-27

    CPC classification number: G01N21/6402

    Abstract: 本发明公开了一种基于泄露辐射成像在ccd靶面与安装定位面夹角误差的校准方法及装置,包括:照明光源,待测荧光物质,含金属层芯片基底,折射率匹配油,显微物镜,反射镜,偏振元件组,滤光片,聚束透镜,水平滑轨,成像透镜,ccd图像传感器。荧光样品在被照明光源辐照后,产生荧光表面等离激元波并泄露辐射通过含金属层芯片基底,在被显微物镜收集信号后实现荧光成像。期间,照明光源发出的激发光由偏振元件组和滤光片过滤。通过移动成像透镜的位置,提出泄露辐射霍夫变换算法对ccd图像传感器靶面进行检测,完成常规手段不易发现的ccd靶面与安装定位面夹角误差的精确校准。本发明结构简单,适用性强。

    一种基于泄露辐射成像的CCD靶面安装校准装置

    公开(公告)号:CN208833665U

    公开(公告)日:2019-05-07

    申请号:CN201821204443.2

    申请日:2018-07-27

    Abstract: 本实用新型公开了一种基于泄露辐射成像的CCD靶面安装校准装置,包括:照明光源,待测荧光物质,含金属层芯片基底,折射率匹配油,显微物镜,反射镜,偏振元件组,滤光片,聚束透镜,水平滑轨,成像透镜,CCD图像传感器。荧光样品在被照明光源辐照后,产生荧光表面等离激元波并泄露辐射通过含金属层芯片基底,在被显微物镜收集信号后实现荧光成像。期间,照明光源发出的激发光由偏振元件组和滤光片过滤。通过移动成像透镜的位置,提出泄露辐射霍夫变换算法对CCD图像传感器靶面进行检测,完成常规手段不易发现的CCD靶面与安装定位面夹角误差的精确校准。本实用新型结构简单,适用性强。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

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