一种基于绒面结构的NEA GaAs光电阴极及其制备方法

    公开(公告)号:CN114496685A

    公开(公告)日:2022-05-13

    申请号:CN202111671068.9

    申请日:2021-12-31

    Abstract: 本发明公开了一种基于绒面结构的NEA GaAs光电阴极及制备方法,属于光电阴极技术领域,所述结构由下至上依次是半导体衬底、GaAs发射层和表面激活层,衬底为Si或者SiC等绝缘体,发射层的上表面被制成了金字塔形的绒面结构,然后对绒面发射层进行Cs/O激活形成激活层。本发明制成的金字塔结构尺寸在1微米左右,且分布均匀。通过表面制绒,降低光电阴极表面的反射率,增加光的吸收,进而提高光电阴极的量子效率。

    一种增强光吸收的纳米孔结构光电阴极及其构建方法

    公开(公告)号:CN113972288B

    公开(公告)日:2025-02-18

    申请号:CN202111210171.3

    申请日:2021-10-18

    Abstract: 本发明公开了一种增强光吸收的纳米孔结构光电阴极及其构建方法,所述光电阴极包括纳米孔阵列、GaAs发射层和Cs\O吸附层,所述纳米孔阵列构建在GaAs发射层的上表面,所述Cs\O吸附层构建于GaAs发射层的下表面。本发明通过等效介质理论,可以将纳米孔阵列等效成一层新的介质,这层新介质的折射率介于真空与GaAs材料之间,能够缓解两者的折射率突变,降低入射光的反射率,提高GaAs发射层对于光的吸收率,从而有效增强光电阴极的性能,可应用于微光像增强器、电子显微镜和新型太阳能电池等领域。

    一种增强光吸收的纳米孔结构光电阴极及其构建方法

    公开(公告)号:CN113972288A

    公开(公告)日:2022-01-25

    申请号:CN202111210171.3

    申请日:2021-10-18

    Abstract: 本发明公开了一种增强光吸收的纳米孔结构光电阴极及其构建方法,所述光电阴极包括纳米孔阵列、GaAs发射层和Cs\O吸附层,所述纳米孔阵列构建在GaAs发射层的上表面,所述Cs\O吸附层构建于GaAs发射层的下表面。本发明通过等效介质理论,可以将纳米孔阵列等效成一层新的介质,这层新介质的折射率介于真空与GaAs材料之间,能够缓解两者的折射率突变,降低入射光的反射率,提高GaAs发射层对于光的吸收率,从而有效增强光电阴极的性能,可应用于微光像增强器、电子显微镜和新型太阳能电池等领域。

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