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公开(公告)号:CN116774571A
公开(公告)日:2023-09-19
申请号:CN202211300491.2
申请日:2022-10-24
Applicant: 南京工程学院
IPC: G05B11/42
Abstract: 本发明公开微细电化学加工的模型参考自适应进给控制方法,包括相关的间隙理论控制模型、实际控制模型与自适应机构的构建与实现方法;其中,间隙的理论/实际控制模型均包含进给控制、宏/微运动控制和去除速度等环节;间隙实际控制模型附加有扰动信号,修改扰动信号可模拟不同加工条件下间隙的实际输出;间隙理论/实际控制模型获取期望间隙,计算理论、实际间隙;自适应机构计算二者偏差E1及变化δL′,持续优化间隙实际控制模型中进给控制环节的控制参数,以获得较优的控制效果;本方法能够解决加工中迟滞、大滞后、非线性、物质迁移等引起的间隙建模、控制难题,实现纳秒脉宽微细电化学加工进给的在线、实时、精确控制。