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公开(公告)号：CN115717233B
公开(公告)日：2025-05-27
申请号：CN202210394992.5
申请日：2022-04-14
Applicant: 南京工业大学
Abstract: 本发明公开了一种多模式低温等离子体金属表面薄膜沉积装置及方法，一种多模式低温等离子体金属表面薄膜沉积装置，包括同步传送机构、多组第一处理组件和第二处理组件，所述第一处理组件包括两个直接介质阻挡放电组件，所述第二处理组件包括两个间接介质阻挡放电组件，通过第一处理组件和第二处理组件的设置，可以选择单启动第一处理组件进行直接介质阻挡放电处理，实现高效快速的对金属箔进行沉积处理，还可以单启动第二处理组件进行间接介质阻挡放电处理，还可以同时启动第一处理组件和第二处理组件，利用第一处理组件充当对金属箔的预处理操作，然后再利用第二处理组件进行均匀的沉积处理。
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公开(公告)号：CN115717233A
公开(公告)日：2023-02-28
申请号：CN202210394992.5
申请日：2022-04-14
Applicant: 南京工业大学
Abstract: 本发明公开了一种多模式低温等离子体金属表面薄膜沉积装置及方法，一种多模式低温等离子体金属表面薄膜沉积装置，包括同步传送机构、多组第一处理组件和第二处理组件，所述第一处理组件包括两个直接介质阻挡放电组件，所述第二处理组件包括两个间接介质阻挡放电组件，通过第一处理组件和第二处理组件的设置，可以选择单启动第一处理组件进行直接介质阻挡放电处理，实现高效快速的对金属箔进行沉积处理，还可以单启动第二处理组件进行间接介质阻挡放电处理，还可以同时启动第一处理组件和第二处理组件，利用第一处理组件充当对金属箔的预处理操作，然后再利用第二处理组件进行均匀的沉积处理。
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公开(公告)号：CN115087183A
公开(公告)日：2022-09-20
申请号：CN202210501489.5
申请日：2022-08-24
Applicant: 南京工业大学 , 南京珀斯佩特电子科技有限公司
IPC: H05H1/24
Abstract: 本发明公开了一种等离子体表面改性装置的功率控制方法，对金属箔材表面进行改性的设备的放电装置进行功率控制；包括以下步骤：预设传动装置的运行速率及该速率对应的放电装置的放电功率；以预设的功率启动放电设备，通过速度传感器采集金属箔材实际运行速率v(t)；根据实际运行速率v(t)得到功率调整值；以预设的周期采集传动装置的实际运行速度，计算出此时功率调整值，并根据功率调整值实现对放电装置的放电功率的控制；根据速度调整值，对电源输出进行相应的调整。本方法通过控制设备电源输出功率的方法，最大程度上保证金属箔材处理效果的均匀性。
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公开(公告)号：CN114828580A
公开(公告)日：2022-07-29
申请号：CN202210497617.3
申请日：2022-05-09
Applicant: 南京工业大学 , 南京珀斯佩特电子科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种用于低温等离子金属薄膜处理装置的液冷装置，包括放电辊液冷回路与放电电极液冷回路；放电辊液冷回路与放电电极液冷回路之间并联；放电辊液冷回路与放电电极液冷回路均包括对应的冷却液箱、冷却泵、换热箱；冷却液箱并列安装于同一个液冷箱中，液冷箱中两个不同的冷却液箱出液口均设置温度传感器；温度传感器同通过继电器与其对应的冷却泵的供电相连；从冷却液箱中流出的液体通过其相应的冷却泵后流入放电辊或者放电电极后进入同一个换热箱；换热箱中的冷却管呈螺旋状，从换热箱出来的冷却管将冷却液传输至液冷箱中。本发明不仅包括放电辊冷却回路，还包括放电电极冷却回路；通过两个回路的配套使用能够明显提高装置的冷却效果。
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