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公开(公告)号：CN113125801A
公开(公告)日：2021-07-16
申请号：CN202110445421.5
申请日：2021-04-23
Applicant: 南京工业大学
Abstract: 一种用于PIV实验通过限制入射激光路径、自定义拍摄区域的防反光装置及使用方法，属于宏观PIV技术领域。本发明由支柱部分、定位杆部分、限制入射激光部分和拍摄口部分组成。本发明利用对入射激光的限制和对拍摄口的控制相结合，限制入射激光与被测柱体最大截面重合，且激光厚度限制在0.6mm以下，大大减少了因被测柱体曲面结构反射激光造成的强反光点；对拍摄口的形状大小的调节，在遮住不可避免的强反光点的基础上可随意调节拍摄区域的大小、形状。本发明可以根据不同尺寸、形状被测柱体做出相应调整，可实现对不同柱体PIV拍摄要求，降低了激光对焦难度，避免了反光问题对摄像头的损伤和实验结果的影响。保障实验可以顺利开展。
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