基于铌膜缓冲层的α相钽膜超导量子比特

    公开(公告)号:CN117979815A

    公开(公告)日:2024-05-03

    申请号:CN202410167219.4

    申请日:2024-02-06

    Abstract: 本发明公开了一种基于铌膜缓冲层的α相钽膜超导量子比特,包括传输线、四分之一波长读出谐振器、超导量子比特,其中:四分之一波长读出谐振器一端与传输线耦合,另一端与超导量子比特耦合;超导量子比特由两个电容极板和约瑟夫森结构成;通过磁控溅射设备,在蓝宝石基底上常温生长铌膜作为缓冲层,紧接着在已有缓冲层铌膜的蓝宝石基底上继续常温生长钽膜,得到有铌膜缓冲层的α相钽膜;传输线、四分之一波长读出谐振器、超导量子比特的两个电容极板光刻在有铌膜缓冲层的α相钽膜上。本发明有效降低了超导量子比特制备成本,缩短了制备周期,提高了良品率,提升了超导量子比特性能,具有广泛的应用领域,包括但不限于量子计算、量子通信等。

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