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公开(公告)号:CN112467022A
公开(公告)日:2021-03-09
申请号:CN202011326012.5
申请日:2020-11-23
Applicant: 南京大学
Abstract: 本发明公开了一种铌基探针型SQUID电磁传感器及制备方法和应用,属于超导应用技术领域。本发明方法包括:使用石英针拉制器将外径1.0mm内径0.5mm的空心石英针拉伸至尖端直径约100nm;使用磁控溅射设备在针尖处生长50nm铌膜,将其表面完全包裹;使用电子束蒸发在石英针两侧生长两次铝膜作为掩膜,由于电子束蒸发设备属于点源溅射,其具有良好的各向异性,两次生长的铝膜不会互相接触短路,会在中间形成两条狭缝,再从顶端进行一次蒸镀,将顶端圆环处铌膜进行保护;使用反应离子刻蚀设备将未被铝膜保护的铌膜被去除,留下铌膜加铝膜的双层结构,即得所述铌基探针型SQUID电磁传感器,可用于检测高频电磁场。
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公开(公告)号:CN112467022B
公开(公告)日:2023-04-07
申请号:CN202011326012.5
申请日:2020-11-23
Applicant: 南京大学
Abstract: 本发明公开了一种铌基探针型SQUID电磁传感器及制备方法和应用,属于超导应用技术领域。本发明方法包括:使用石英针拉制器将外径1.0mm内径0.5mm的空心石英针拉伸至尖端直径约100nm;使用磁控溅射设备在针尖处生长50nm铌膜,将其表面完全包裹;使用电子束蒸发在石英针两侧生长两次铝膜作为掩膜,由于电子束蒸发设备属于点源溅射,其具有良好的各向异性,两次生长的铝膜不会互相接触短路,会在中间形成两条狭缝,再从顶端进行一次蒸镀,将顶端圆环处铌膜进行保护;使用反应离子刻蚀设备将未被铝膜保护的铌膜被去除,留下铌膜加铝膜的双层结构,即得所述铌基探针型SQUID电磁传感器,可用于检测高频电磁场。
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