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公开(公告)号：CN117130234A
公开(公告)日：2023-11-28
申请号：CN202310960262.1
申请日：2023-08-02
Applicant: 南京大学
IPC: G03F7/32
Abstract: 本发明属于纳米材料和光学刻蚀技术领域，特别涉及一种无胶光刻量子点显影方法及其在图案化薄膜器件中应用；本发明通过在无配位或弱配位功能的单一溶剂中引入具有配位作用的功能分子，在实现显影和洗脱效果的同时，保证纳米晶体表面的配体分子不受影响，纳米晶体图案化后仍然具有原有的性能；本发明开发一种新的显影方式，将旋涂技术引入显影和洗脱方法中，通过转速的调整，实现对整个过程的精准控制，保证纳米晶体薄膜的均一度，避免在图案化不同纳米晶体的时候发生交叉污染，保证相关器件高效的工作性能。
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公开(公告)号：CN114350184A
公开(公告)日：2022-04-15
申请号：CN202111469648.X
申请日：2021-12-03
Applicant: 南京大学
Abstract: 本发明属于纳米材料和光学刻蚀技术领域，特别涉及一种修复型光敏纳米涂料及其制备方法和应用，本发明利用PBGs光敏配体与纳米晶体相结合，制备具有自修复功能的光敏涂料，在光刻图案化过程中，实现图案化的同时，利用光敏配体分解后的产物再次修饰纳米晶体，保持甚至提高纳米晶体原有的光电性能，将原有的显影和后处理两步合并为一步，从而建立无损化的光学图案化方法。
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公开(公告)号：CN115308997B
公开(公告)日：2024-10-01
申请号：CN202211052499.1
申请日：2022-08-31
Applicant: 南京大学
Abstract: 本发明属于纳米材料和光学刻蚀技术领域，特别涉及一种绿色溶剂中胶体纳米晶的无胶光学图案化方法，本发明通过引入结构与绿色溶剂结构相似的光敏配体，成功将纳米晶分散在绿色溶剂之中，并且可以对纳米晶完成直接的光刻；通过配体交换后得到的光敏纳米晶可以有效地分散在绿色溶剂中并且其吸收发射光谱，形貌尺寸不变的同时，荧光量子产率(PLQY)可以保留约90％；本发明解决了纳米晶无法在绿色溶剂中进行直接光刻的问题，有望在电致和光致发光量子点显示器领域纳米晶的商业化中得到应用。
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公开(公告)号：CN114350364A
公开(公告)日：2022-04-15
申请号：CN202210047192.6
申请日：2022-01-17
Applicant: 南京大学
IPC: C09K11/88
Abstract: 本发明属于纳米材料技术领域，特别涉及一种高荧光产率全无机胶体纳米晶体的制备方法，本发明利用金属盐作为新型的剥离配体，根据软硬酸碱理论，设计了基于纳米晶体的高效表面处理技术，实现了高荧光量子产率的全无机纳米晶体的制备，本发明解决了目前全无机纳米晶体发光效率低下的问题，同时在全无机纳米晶体材料中首次实现了高电荷转移效率和高量子产率的并存，通过本发明的方法制备的纳米晶体有望在电致和光致发光量子点显示器领域得到广泛的应用。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114350364B
公开(公告)日：2023-04-21
申请号：CN202210047192.6
申请日：2022-01-17
Applicant: 南京大学
IPC: C09K11/88
Abstract: 本发明属于纳米材料技术领域，特别涉及一种高荧光产率全无机胶体纳米晶体的制备方法，本发明利用金属盐作为新型的剥离配体，根据软硬酸碱理论，设计了基于纳米晶体的高效表面处理技术，实现了高荧光量子产率的全无机纳米晶体的制备，本发明解决了目前全无机纳米晶体发光效率低下的问题，同时在全无机纳米晶体材料中首次实现了高电荷转移效率和高量子产率的并存，通过本发明的方法制备的纳米晶体有望在电致和光致发光量子点显示器领域得到广泛的应用。
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公开(公告)号：CN115308997A
公开(公告)日：2022-11-08
申请号：CN202211052499.1
申请日：2022-08-31
Applicant: 南京大学
Abstract: 本发明属于纳米材料和光学刻蚀技术领域，特别涉及一种绿色溶剂中胶体纳米晶的无胶光学图案化方法，本发明通过引入结构与绿色溶剂结构相似的光敏配体，成功将纳米晶分散在绿色溶剂之中，并且可以对纳米晶完成直接的光刻；通过配体交换后得到的光敏纳米晶可以有效地分散在绿色溶剂中并且其吸收发射光谱，形貌尺寸不变的同时，荧光量子产率(PLQY)可以保留约90％；本发明解决了纳米晶无法在绿色溶剂中进行直接光刻的问题，有望在电致和光致发光量子点显示器领域纳米晶的商业化中得到应用。
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公开(公告)号：CN117420729B
公开(公告)日：2024-10-01
申请号：CN202311132211.6
申请日：2023-09-05
Applicant: 南京大学
Abstract: 本发明属于纳米材料图案化方法技术领域，特别涉及一种基于有机磷配体的纳米晶体在光学图案化中的应用，本发明通过引入含磷基团的有机分子作为光敏配体，将纳米晶体转变为光敏涂料，实现直接图案化；本发明解决了在完成图案化的过程中有效降低纳米晶体性能损失的问题，且具有以下几点优势：1)高度的区域/立体专一性；2)光敏区间可调，适用于DUV，i‑line和h‑line光源光刻；3)具有高的反应灵敏度，需要极低的曝光剂量；4)对环境不敏感，可在空气氛中操作，反应条件温和，易于操作；本发明的工艺有望在电致及光致发光量子点显示器领域纳米晶体的商业化中得到应用。
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公开(公告)号：CN117420729A
公开(公告)日：2024-01-19
申请号：CN202311132211.6
申请日：2023-09-05
Applicant: 南京大学
Abstract: 本发明属于纳米材料图案化方法技术领域，特别涉及一种基于有机磷配体的纳米晶体无胶光刻方法，本发明通过引入含磷基团的有机分子作为光敏配体，将纳米晶体转变为光敏涂料，实现直接图案化；本发明解决了在完成图案化的过程中有效降低纳米晶体性能损失的问题，且具有以下几点优势：1)高度的区域/立体专一性；2)光敏区间可调，适用于DUV，i‑line和h‑line光源光刻；3)具有高的反应灵敏度，需要极低的曝光剂量；4)对环境不敏感，可在空气氛中操作，反应条件温和，易于操作；本发明的工艺有望在电致及光致发光量子点显示器领域纳米晶体的商业化中得到应用。
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公开(公告)号：CN114350184B
公开(公告)日：2022-07-29
申请号：CN202111469648.X
申请日：2021-12-03
Applicant: 南京大学
Abstract: 本发明属于纳米材料和光学刻蚀技术领域，特别涉及一种修复型光敏纳米涂料及其制备方法和应用，本发明利用PBGs光敏配体与纳米晶体相结合，制备具有自修复功能的光敏涂料，在光刻图案化过程中，实现图案化的同时，利用光敏配体分解后的产物再次修饰纳米晶体，保持甚至提高纳米晶体原有的光电性能，将原有的显影和后处理两步合并为一步，从而建立无损化的光学图案化方法。
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