一种制备高纯度硅颗粒的方法

    公开(公告)号:CN105417545B

    公开(公告)日:2018-11-23

    申请号:CN201510632181.4

    申请日:2015-09-29

    Applicant: 南京大学

    Inventor: 朱嘉 宗麟奇 崔屹

    Abstract: 本发明通过酸洗平均粒度小于40微米的原料硅颗粒,有效降低了原料硅中杂质的含量,获得了高纯度硅颗粒。该高纯度硅颗粒作为锂离子电池负极材料,表现出较好的循环能力和倍率能力。

    一种制备高纯度硅颗粒的方法

    公开(公告)号:CN105417545A

    公开(公告)日:2016-03-23

    申请号:CN201510632181.4

    申请日:2015-09-29

    Applicant: 南京大学

    Inventor: 朱嘉 宗麟奇 崔屹

    Abstract: 本发明通过酸洗平均粒度小于40微米的原料硅颗粒,有效降低了原料硅中杂质的含量,获得了高纯度硅颗粒。该高纯度硅颗粒作为锂离子电池负极材料,表现出较好的循环能力和倍率能力。

    纳米多孔材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN106684364B

    公开(公告)日:2020-04-24

    申请号:CN201710056842.2

    申请日:2017-01-26

    Applicant: 南京大学

    Inventor: 朱嘉 宗麟奇 刘畅

    Abstract: 本发明涉及纳米多孔材料及其制备方法。该多孔材料含有M单质,M为Si和/或Ge;该多孔材料的粒度为20~150nm,孔隙率为0.2~0.8,比表面积为15~300m2/g。该多孔材料作为电极材料具有较好的性能。

    纳米多孔材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN106684364A

    公开(公告)日:2017-05-17

    申请号:CN201710056842.2

    申请日:2017-01-26

    Applicant: 南京大学

    Inventor: 朱嘉 宗麟奇 刘畅

    Abstract: 本发明涉及纳米多孔材料及其制备方法。该多孔材料含有M单质,M为Si和/或Ge;该多孔材料的粒度为20~150nm,孔隙率为0.2~0.8,比表面积为15~300m2/g。该多孔材料作为电极材料具有较好的性能。

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