芯片上的大倾角氧化硅微盘谐振腔及其制备方法

    公开(公告)号:CN103708405A

    公开(公告)日:2014-04-09

    申请号:CN201310556855.8

    申请日:2013-11-08

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 本发明公开了一种芯片上的大倾角氧化硅微盘谐振腔,包括氧化硅微盘和硅柱,氧化硅微盘通过硅柱支撑在基片上,氧化硅微盘的侧面为斜面,斜面与氧化硅微盘底面的夹角为45º~90º。本发明的芯片上的氧化硅微盘谐振腔侧壁倾角大,易于实现耦合。本发明还公开了芯片上的大倾角氧化硅微盘谐振腔的制备方法,利用本方法制备出的片上氧化硅微盘谐振腔品质因子高,且侧壁倾角大,易于实现耦合;制备流程与传统的集成电路工艺相兼容,具有操作简单、可重复性强和易于集成等优点。

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