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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110532588A
公开(公告)日：2019-12-03
申请号：CN201910625840.X
申请日：2019-07-11
Applicant: 华南理工大学
Abstract: 本发明公开了一种Hilbert曲线引导的三维类摆线智能抛光方法，包括步骤：建立工件三维曲面与二维平面的空间映射关系；在二维参数域内生成标准Hilbert曲线，并进行变形获得改进Hilbert曲线；以改进Hilbert曲线为引导线，生成步距和半径可调的摆线轨迹；利用人工神经网络拟合抛光加工材料去除计算模型，预测三维网格曲面每个顶点材料去除深度的平均值和均方差；约束抛光轨迹各参数的取值范围；将材料去除深度的平均值和均方差作为优化目标，利用智能优化算法确定摆线轨迹中可调参数的最优值组合；将参数确定的摆线轨迹投影到二维平面上，并对边界上断开的轨迹重新排序形成完整摆线轨迹；将二维平面上的摆线轨迹逆映射到三维曲面，得到最终实际加工的三维类摆线轨迹。
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公开(公告)号：CN106707969A
公开(公告)日：2017-05-24
申请号：CN201710081394.1
申请日：2017-02-15
Applicant: 华南理工大学
IPC: G05B19/4097
CPC classification number: G05B19/4097 , G05B2219/35012
Abstract: 本发明公开了一种沿中心轴线进给的三维类摆线抛光轨迹生成方法，包括以下步骤：通过几何处理的方法将三维网格曲面映射变换到平面参数区域，计算并保存各网格元素在该映射变换下的拉伸变形关系；在平面参数区域内生成该区域的中心轴线；以中心轴线为引导线，根据轴线位置所对应的三维网格曲面的局部几何特征以及拉伸变形关系，自适应调节沿中心轴线进给的摆线轨迹的步距；根据自适应的摆线轨迹步距，以及平面参数区域的边界轮廓约束，依次生成半径与步距可变的摆线轨迹填充整个平面参数区域；将所生成的平面摆线轨迹逆映射至对应的三维网格曲面，得到所需的三维类摆线抛光轨迹。本发明能够提高三维曲面抛光的均匀性，提升工件表面质量。
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公开(公告)号：CN107369127B
公开(公告)日：2020-07-28
申请号：CN201710434687.3
申请日：2017-06-09
Applicant: 华南理工大学
Abstract: 本发明公开了一种沿行切路径进给的三维类摆线抛光轨迹生成方法，包括步骤：S1、获取并建立三维曲面与二维参数区域之间的空间映射关系；S2、在平面参数区域内规划行切进给路径；S3、计算行切进给路径位置在参数域两个方向上的映射拉伸系数，自适应地调节沿行切路径进给的二维摆线的步距值与半径值；S4、根据自适应的二维摆线的步距与半径，以行切进给路径为引导线，通过不断迭代生成二维摆线轨迹以覆盖整个平面参数区域；S5、将所述二维摆线轨迹逆映射回三维曲面，获得三维类摆线抛光轨迹。本发明的抛光轨迹生成方法能够利用摆线轨迹的多方向性以避免产生周期性的抛光痕迹，可提高自由曲面抛光的均匀性，从而提升加工工件的表面质量。
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公开(公告)号：CN106707969B
公开(公告)日：2019-01-18
申请号：CN201710081394.1
申请日：2017-02-15
Applicant: 华南理工大学
IPC: G05B19/4097
Abstract: 本发明公开了一种沿中心轴线进给的三维类摆线抛光轨迹生成方法，包括以下步骤：通过几何处理的方法将三维网格曲面映射变换到平面参数区域，计算并保存各网格元素在该映射变换下的拉伸变形关系；在平面参数区域内生成该区域的中心轴线；以中心轴线为引导线，根据轴线位置所对应的三维网格曲面的局部几何特征以及拉伸变形关系，自适应调节沿中心轴线进给的摆线轨迹的步距；根据自适应的摆线轨迹步距，以及平面参数区域的边界轮廓约束，依次生成半径与步距可变的摆线轨迹填充整个平面参数区域；将所生成的平面摆线轨迹逆映射至对应的三维网格曲面，得到所需的三维类摆线抛光轨迹。本发明能够提高三维曲面抛光的均匀性，提升工件表面质量。
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公开(公告)号：CN107369127A
公开(公告)日：2017-11-21
申请号：CN201710434687.3
申请日：2017-06-09
Applicant: 华南理工大学
CPC classification number: G06T3/0037 , G06T3/0043 , G06T15/005
Abstract: 本发明公开了一种沿行切路径进给的三维类摆线抛光轨迹生成方法，包括步骤：S1、获取并建立三维曲面与二维参数区域之间的空间映射关系；S2、在平面参数区域内规划行切进给路径；S3、计算行切进给路径位置在参数域两个方向上的映射拉伸系数，自适应地调节沿行切路径进给的二维摆线的步距值与半径值；S4、根据自适应的二维摆线的步距与半径，以行切进给路径为引导线，通过不断迭代生成二维摆线轨迹以覆盖整个平面参数区域；S5、将所述二维摆线轨迹逆映射回三维曲面，获得三维类摆线抛光轨迹。本发明的抛光轨迹生成方法能够利用摆线轨迹的多方向性以避免产生周期性的抛光痕迹，可提高自由曲面抛光的均匀性，从而提升加工工件的表面质量。
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