硫酸酯化裂褶多糖及其制备方法及其在化妆品中的应用

    公开(公告)号:CN114014948B

    公开(公告)日:2023-01-06

    申请号:CN202111294970.3

    申请日:2021-11-03

    Abstract: 本发明公开了硫酸酯化裂褶多糖及其制备方法及其在化妆品中的应用;硫酸酯化裂褶多糖由浸润后的裂褶多糖与三氧化硫吡啶反应后降低温度至0~20℃,加入浓硫酸继续反应,反应产物经过蒸馏水溶解,调节溶液pH值,醇沉,复溶后透析,减压浓缩,干燥所得;控制三氧化硫吡啶的加入量为裂褶多糖质量的2~6倍,裂褶多糖与三氧化硫吡啶反应温度为50~80℃,反应时间为1~4h;控制浓硫酸的加入量为裂褶多糖质量的1~3倍,继续反应时间为10~40min。本发明所制备的硫酸酯化裂褶多糖的得率较高,为90%~200%,产物的取代度为1.6‑2.0,溶解性强,无需加热溶解。

    利用裂褶菌发酵体系自产内切酶对裂褶多糖进行降解改性的方法

    公开(公告)号:CN107686854B

    公开(公告)日:2020-09-22

    申请号:CN201710881565.9

    申请日:2017-09-26

    Abstract: 本发明公开了利用裂褶菌发酵体系自产内切酶对裂褶多糖进行降解改性的方法;该方法先将裂褶菌斜面菌种采用PDA培养基重新接种活化及培育,得发酵种子液;接入发酵种子液,在搅拌速度为100~250rpm,通气速率为0.2~0.7vvm,培养温度为26‑29℃条件下连续培养和发酵,然后进行陶瓷微滤膜分离,滤液中的多糖由酶解改性,改性多糖经分离,得改性多糖;本发明改性多糖的分子量由4000kDa以上降解为1500kDa以下,24小时内在蒸馏水中完全溶解。本发明方法利用菌体自身分泌的酶对多糖进行降解,不仅解决了专一性酶难以获得的问题,而且工艺大大简化,降低了生产成本,是一种具有工业化潜力获得可溶性多糖的方法。

    利用裂褶菌发酵体系自产内切酶对裂褶多糖进行降解改性的方法

    公开(公告)号:CN107686854A

    公开(公告)日:2018-02-13

    申请号:CN201710881565.9

    申请日:2017-09-26

    Abstract: 本发明公开了利用裂褶菌发酵体系自产内切酶对裂褶多糖进行降解改性的方法;该方法先将裂褶菌斜面菌种采用PDA培养基重新接种活化及培育,得发酵种子液;接入发酵种子液,在搅拌速度为100~250rpm,通气速率为0.2~0.7vvm,培养温度为26-29℃条件下连续培养和发酵,然后进行陶瓷微滤膜分离,滤液中的多糖由酶解改性,改性多糖经分离,得改性多糖;本发明改性多糖的分子量由4000kDa以上降解为1500kDa以下,24小时内在蒸馏水中完全溶解。本发明方法利用菌体自身分泌的酶对多糖进行降解,不仅解决了专一性酶难以获得的问题,而且工艺大大简化,降低了生产成本,是一种具有工业化潜力获得可溶性多糖的方法。

    硫酸酯化裂褶多糖及其制备方法及其在化妆品中的应用

    公开(公告)号:CN114014948A

    公开(公告)日:2022-02-08

    申请号:CN202111294970.3

    申请日:2021-11-03

    Abstract: 本发明公开了硫酸酯化裂褶多糖及其制备方法及其在化妆品中的应用;硫酸酯化裂褶多糖由浸润后的裂褶多糖与三氧化硫吡啶反应后降低温度至0~20℃,加入浓硫酸继续反应,反应产物经过蒸馏水溶解,调节溶液pH值,醇沉,复溶后透析,减压浓缩,干燥所得;控制三氧化硫吡啶的加入量为裂褶多糖质量的2~6倍,裂褶多糖与三氧化硫吡啶反应温度为50~80℃,反应时间为1~4h;控制浓硫酸的加入量为裂褶多糖质量的1~3倍,继续反应时间为10~40min。本发明所制备的硫酸酯化裂褶多糖的得率较高,为90%~200%,产物的取代度为1.6‑2.0,溶解性强,无需加热溶解。

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