公开(公告)号：CN102427113A

公开(公告)日：2012-04-25

申请号：CN201110394364.9

申请日：2011-12-02

Applicant: 华南理工大学

Inventor： 周军红 ,  曹镛 ,  彭俊彪 ,  王坚 ,  许伟 ,  艾娜 ,  郑华 ,  郑奕娜

IPC: H01L51/52 ,  H01L27/32 ,  H01L51/56

Abstract: 本发明公开了一种有机电致发光点阵显示屏基板结构及其制备方法。该基板包括衬底、电极、导线和绝缘层；在衬底上面间隔设有多个电极，条形的电极间隔为10~99微米，厚度为100nm~200nm；起导电作用的导线设置在条形的电极上面且位于条形的电极的两侧，厚度低于1微米；绝缘层是由绝缘材料覆盖导线，且占满相邻两条形的电极的间隙，并在该间隙处向上延伸，与电极前后端覆盖的绝缘材料形成椭圆形像素井，椭圆形像素井底面为电极；绝缘层高度低于2微米。本发明通过节省传统OLED基板的隔离柱，有效改善了功能薄膜的成膜性，容易制作无缺陷的有机发光点阵显示屏；提高了驱动电流的注入能力和改善了显示屏的发光均匀性。

公开(公告)号：CN102969393A

公开(公告)日：2013-03-13

申请号：CN201210401751.5

申请日：2012-10-19

Applicant: 华南理工大学

Inventor： 苏仕健 ,  江志雄 ,  周军红 ,  彭俊彪 ,  曹镛

IPC: H01L31/18 ,  H01L51/56 ,  H01J9/02

CPC classification number: Y02P70/521

Abstract: 本发明公开了一种基底上ITO薄膜图案化方法，包括以下步骤：（1）在基底上沉积好一层ITO薄膜；（2）将贴膜紧密地贴合于步骤（1）的ITO薄膜之上，并且去除贴膜与ITO薄膜之间的气泡，其中贴膜为被图案化的；（3）通过湿法刻蚀去除步骤（2）中没有被贴膜保护到ITO薄膜部分；（4）撕去贴膜，得到图案化ITO薄膜。本发明ITO薄膜图案化方法具有步骤简单、成本低等优点，并且适合在柔性基底上使用，能够有效的防止由于柔性基底卷曲而导致ITO薄膜被刻花以及出现断路和短路的现象。