一种反应条件可控的CVD反应腔装置

    公开(公告)号:CN207828406U

    公开(公告)日:2018-09-07

    申请号:CN201721440061.5

    申请日:2017-10-30

    Abstract: 本实用新型公开一种反应条件可控的CVD反应腔装置,包括透明的反应腔外管,所述反应腔外管内部从一端向另一端依次设有可轴向移动的衬底物托架、第一反应物放置托架和透明的反应腔内管,所述反应腔内管内部设有第二反应物放置凹槽。相对现有技术,本实用新型技术方案的反应条件可控的CVD反应腔装置能够使得生长衬底物位于最优的生长气氛中,从而有利于生长大面积的二维晶体材料。

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