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公开(公告)号:CN118315002B
公开(公告)日:2024-10-11
申请号:CN202410710506.5
申请日:2024-06-03
Applicant: 华侨大学
IPC: G16C60/00 , G06F30/20 , G06T17/00 , G06F111/10
Abstract: 一种三元半导体材料外延生长数值模拟方法,包括以下步骤:S1 建立三元半导体化合物外延生长耦合相场模型,简称三元相场模型,所述的三元半导体化合物包括第一组分、第二组分、第三组分;S2 向三元相场模型中输入各参数信息,计算所述的三元相场模型#imgabs0#时刻的数值解;S3 对计算出来的三元相场模型#imgabs1#时刻的数值解利用半隐积分延迟校正算法进行后处理,得到高阶时间精度的三元相场模型#imgabs2#时刻校正数值解;本发明利用数值模拟进行仿真,可以在不需要消耗任何原材料的情况下,实现晶体生长全过程实时监测并可以灵活变动组分配比,为制备高性能、高质量单晶材料提供重要参考指导。
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公开(公告)号:CN118315002A
公开(公告)日:2024-07-09
申请号:CN202410710506.5
申请日:2024-06-03
Applicant: 华侨大学
IPC: G16C60/00 , G06F30/20 , G06T17/00 , G06F111/10
Abstract: 一种三元半导体材料外延生长数值模拟方法,包括以下步骤:S1.建立三元半导体化合物外延生长耦合相场模型,简称三元相场模型,所述的三元半导体化合物包括第一组分、第二组分、第三组分;S2.向三元相场模型中输入各参数信息,计算所述的三元相场模型#imgabs0#时刻的数值解;S3.对计算出来的三元相场模型#imgabs1#时刻的数值解利用半隐积分延迟校正算法进行后处理,得到高阶时间精度的三元相场模型#imgabs2#时刻校正数值解;本发明利用数值模拟进行仿真,可以在不需要消耗任何原材料的情况下,实现晶体生长全过程实时监测并可以灵活变动组分配比,为制备高性能、高质量单晶材料提供重要参考指导。
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