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公开(公告)号:CN107633868A
公开(公告)日:2018-01-26
申请号:CN201710766232.1
申请日:2017-08-30
Applicant: 华中科技大学
IPC: G12B5/00
Abstract: 本发明属于大行程高精度定位平台相关技术领域,其公开了一种二自由度气浮运动平台,其包括大理石底座、第一X向运动组件、第二X向运动组件及Y向运动组件,所述第一X向运动组件及所述第二X向运动组件分别设置在所述大理石底座相背的两端,所述Y向运动组件的两端分别连接于所述第一X向运动组件及所述第二X向运动组件;所述第一X向运动组件包括设置在所述大理石底座上的第一X向大理石导轨、套在所述第一X向大理石导轨上的第一X向滑块及第一X向水平气浮块,所述第一X向水平气浮块设置在所述第一X向滑块上,其用于自动调节所述第一X向滑块与所述第一X向大理石导轨之间的气膜厚度。本发明通过气浮块保持气膜厚度不变,提高定位精度。
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公开(公告)号:CN107633868B
公开(公告)日:2019-08-13
申请号:CN201710766232.1
申请日:2017-08-30
Applicant: 华中科技大学
IPC: G12B5/00
Abstract: 本发明属于大行程高精度定位平台相关技术领域,其公开了一种二自由度气浮运动平台,其包括大理石底座、第一X向运动组件、第二X向运动组件及Y向运动组件,所述第一X向运动组件及所述第二X向运动组件分别设置在所述大理石底座相背的两端,所述Y向运动组件的两端分别连接于所述第一X向运动组件及所述第二X向运动组件;所述第一X向运动组件包括设置在所述大理石底座上的第一X向大理石导轨、套在所述第一X向大理石导轨上的第一X向滑块及第一X向水平气浮块,所述第一X向水平气浮块设置在所述第一X向滑块上,其用于自动调节所述第一X向滑块与所述第一X向大理石导轨之间的气膜厚度。本发明通过气浮块保持气膜厚度不变,提高定位精度。
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公开(公告)号:CN107477088B
公开(公告)日:2019-01-22
申请号:CN201710538142.7
申请日:2017-07-04
Applicant: 华中科技大学
IPC: F16C29/12
Abstract: 本发明属于大行程高精度运动定位相关技术领域,其公开了一种间隙补偿机构,所述间隙补偿机构包括第一磁铁、第二磁铁、第三磁铁、支架及底座,所述第一磁铁、所述第三磁铁及所述第二磁铁依次间隔收容于所述底座内,所述第一磁铁及所述第二磁铁均连接于所述底座;所述第三磁铁在第一磁铁与第二磁铁间隙内移动时,所受第一磁铁与第二磁铁磁合力大小基本不变,在封闭型气浮导轨应用时,实现在保证气膜厚度不变的条件下,补偿导轨面间隙的变化;所述支架设置在所述底座上,其连接于所述第三磁铁,所述第三磁铁及所述支架通过同步移动以实现间隙补偿。所述间隙补偿机构的所述第三磁铁及所述支架通过同步移动来实现间隙补偿,且结构简单,灵活性较高。
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公开(公告)号:CN107477088A
公开(公告)日:2017-12-15
申请号:CN201710538142.7
申请日:2017-07-04
Applicant: 华中科技大学
IPC: F16C29/12
CPC classification number: F16C29/12 , F16C29/001
Abstract: 本发明属于大行程高精度运动定位相关技术领域,其公开了一种间隙补偿机构,所述间隙补偿机构包括第一磁铁、第二磁铁、第三磁铁、支架及底座,所述第一磁铁、所述第三磁铁及所述第二磁铁依次间隔收容于所述底座内,所述第一磁铁及所述第二磁铁均连接于所述底座;所述第三磁铁在第一磁铁与第二磁铁间隙内移动时,所受第一磁铁与第二磁铁磁合力大小基本不变,在封闭型气浮导轨应用时,实现在保证气膜厚度不变的条件下,补偿导轨面间隙的变化;所述支架设置在所述底座上,其连接于所述第三磁铁,所述第三磁铁及所述支架通过同步移动以实现间隙补偿。所述间隙补偿机构的所述第三磁铁及所述支架通过同步移动来实现间隙补偿,且结构简单,灵活性较高。
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