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公开(公告)号：CN111037344A
公开(公告)日：2020-04-21
申请号：CN201911414666.0
申请日：2019-12-31
Applicant: 华中科技大学
IPC: B23Q3/154
Abstract: 本发明属于超精密加工领域，公开了一种磁场辅助的超精密加工装置和方法。该装置包括机床主体和励磁模块；所述机床主体包括超精密机床主轴和刀架；所述励磁模块包括磁体、固定架、调节板以及磁体夹具；所述调节板通过所述固定架固定于所述机床主体上；两个所述磁体夹具可移动地装设于所述调节板上，两个所述磁体极性为N-S相对放置，且分别安装于两个所述磁体夹具上，以在两个所述磁体夹具之间形成0～0.3T的磁场；当所述超精密机床主轴装夹工件时，两个所述磁体夹具位于工件两侧，以使工件的加工过程在所述磁场中进行。本发明通过磁场辅助超精密切削，以此来解决难加工材料加工中所遇到的问题，提高加工表面质量和精度，减少刀具磨损。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110787846A
公开(公告)日：2020-02-14
申请号：CN201911072923.7
申请日：2019-11-05
Applicant: 华中科技大学
IPC: B01L3/00
Abstract: 本发明公开了一种一步式双层微液滴生成装置包括微量流体注射模块、微流控芯片和液滴收集模块，微流控芯片的入口和出口通过毛细管分别连接于微量流体注射模块和液滴收集模块；微流控芯片为轴对称结构，对称轴上分别设置有外部相入口、中部相入口、内部相入口、流动聚焦模块和液滴出口，流动聚焦模块为5入1出的对称六连通结构，外部相入口经一个三通模块后通过微流道连接于流动聚焦模块的A口和E口，中部相入口经一个三通模块后通过微流道连接于流动聚焦模块的B口和D口，内部相入口通过微流道连接于流动聚焦模块的C口，流动聚焦模块的F口连接于液滴出口。本发明结构简单，简化了微流控芯片的制作工序，缩短了制作周期，提高了生产效率。
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公开(公告)号：CN110202420A
公开(公告)日：2019-09-06
申请号：CN201910529489.4
申请日：2019-06-19
Applicant: 华中科技大学
IPC: B24B1/00
Abstract: 本发明属于流体辅助微纳抛光技术领域，并具体公开了一种基于电励旋转磁场的磁流变抛光装置及方法，其包括上液压单元、下液压单元、抛光腔和励磁线圈，上液压单元和下液压单元分设于抛光腔两端，并与抛光腔导通形成用于容纳磁流变抛光液的容纳腔，磁流变抛光液在上液压单元和下液压单元的共同作用下达到预设压力并做上下往复运动；抛光腔的内部用于放置待抛光工件，其外部套装有励磁线圈，通过对励磁线圈通电以在抛光腔内形成绕抛光腔轴线旋转的磁场，磁流变抛光液在旋转磁场的作用下运动以实现待抛光工件的抛光。本发明具有结构简单、抛光过程可控性强、效率高、抛光均匀，没有表面损伤等优点。
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公开(公告)号：CN110340736B
公开(公告)日：2021-05-18
申请号：CN201910529415.0
申请日：2019-06-19
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于超精密光学元件抛光领域，并具体公开了一种基于流场聚焦的磁流变抛光装置及方法，其包括端盖、套筒、抛光头外壳和隔磁转轴，端盖和抛光头外壳与套筒两端连接，抛光头外壳上开设有进液口和出液口；隔磁转轴安装在套筒内，其一端穿过端盖与外部旋转动力源相连，另一端嵌装有永磁体，并插入抛光头外壳内，与抛光头外壳内部形成流动聚焦腔，出液口位于永磁体正下方；抛光时，磁流变抛光液一部分在隔磁转轴端面处受永磁体作用形成宾汉体，另一部分在流动聚焦腔内流动并经出液口喷出，该部分在流动时产生流体动压力对宾汉体进行挤压塑形，以形成平均直径小于出液口直径的宾汉体小抛光头。本发明实现不同表面形状工件的高效抛光。
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公开(公告)号：CN110787846B
公开(公告)日：2021-04-16
申请号：CN201911072923.7
申请日：2019-11-05
Applicant: 华中科技大学
IPC: B01L3/00
Abstract: 本发明公开了一种一步式多层微液滴生成装置包括微量流体注射模块、微流控芯片和液滴收集模块，微流控芯片的入口和出口通过毛细管分别连接于微量流体注射模块和液滴收集模块；微流控芯片为轴对称结构，对称轴上分别设置有外部相入口、中部相入口、内部相入口、流动聚焦模块和液滴出口，流动聚焦模块为5入1出的对称六连通结构，外部相入口经一个三通模块后通过微流道连接于流动聚焦模块的A口和E口，中部相入口经一个三通模块后通过微流道连接于流动聚焦模块的B口和D口，内部相入口通过微流道连接于流动聚焦模块的C口，流动聚焦模块的F口连接于液滴出口。本发明结构简单，简化了微流控芯片的制作工序，缩短了制作周期，提高了生产效率。
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公开(公告)号：CN110340736A
公开(公告)日：2019-10-18
申请号：CN201910529415.0
申请日：2019-06-19
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于超精密光学元件抛光领域，并具体公开了一种基于流场聚焦的磁流变抛光装置及方法，其包括端盖、套筒、抛光头外壳和隔磁转轴，端盖和抛光头外壳与套筒两端连接，抛光头外壳上开设有进液口和出液口；隔磁转轴安装在套筒内，其一端穿过端盖与外部旋转动力源相连，另一端嵌装有永磁体，并插入抛光头外壳内，与抛光头外壳内部形成流动聚焦腔，出液口位于永磁体正下方；抛光时，磁流变抛光液一部分在隔磁转轴端面处受永磁体作用形成宾汉体，另一部分在流动聚焦腔内流动并经出液口喷出，该部分在流动时产生流体动压力对宾汉体进行挤压塑形，以形成平均直径小于出液口直径的宾汉体小抛光头。本发明实现不同表面形状工件的高效抛光。
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