公开(公告)号：CN107096997B

公开(公告)日：2019-09-24

申请号：CN201710325564.6

申请日：2017-05-10

Applicant: 华中科技大学

Inventor： 梁科 ,  杨振宇 ,  赵茗

IPC: B23K26/362 ,  B23K26/064 ,  B23K26/04 ,  B23K26/70

Abstract: 本发明公开了一种基于连续激光的三维微结构刻写系统及方法，系统包括：连续激光器，用于发出激光；声光调制器，用于调节激光的功率；物镜，用于对声光调制器调节功率后的激光进行会聚，得到聚焦光束，聚焦光束的功率密度大于双光子吸收的阈值功率密度；光敏材料，用于在聚焦光束的作用下发生双光子聚合而固化，实现双光子聚合直写；三维纳米位移平台，用于承载光敏材料，并控制光敏材料在三维方向移动，以通过对光敏材料的逐层双光子聚合直写实现对光敏材料的三维微结构刻写。本发明实施例采用低成本的连续激光器作为刻写光源，并通过声光调制器调节刻写光源的功率，实现了基于连续激光器的三维微结构刻写，节省了成本。

公开(公告)号：CN107096997A

公开(公告)日：2017-08-29

申请号：CN201710325564.6

申请日：2017-05-10

Applicant: 华中科技大学

Inventor： 梁科 ,  杨振宇 ,  赵茗

IPC: B23K26/362 ,  B23K26/064 ,  B23K26/04 ,  B23K26/70

Abstract: 本发明公开了一种基于连续激光的三维微结构刻写系统及方法，系统包括：连续激光器，用于发出激光；声光调制器，用于调节激光的功率；物镜，用于对声光调制器调节功率后的激光进行会聚，得到聚焦光束，聚焦光束的功率密度大于双光子吸收的阈值功率密度；光敏材料，用于在聚焦光束的作用下发生双光子聚合而固化，实现双光子聚合直写；三维纳米位移平台，用于承载光敏材料，并控制光敏材料在三维方向移动，以通过对光敏材料的逐层双光子聚合直写实现对光敏材料的三维微结构刻写。本发明实施例采用低成本的连续激光器作为刻写光源，并通过声光调制器调节刻写光源的功率，实现了基于连续激光器的三维微结构刻写，节省了成本。