-
公开(公告)号：CN114536975B
公开(公告)日：2023-03-28
申请号：CN202210190282.0
申请日：2022-02-28
Applicant: 华中科技大学
IPC: B41J2/01 , B41J29/393
Abstract: 本发明公开了一种喷墨打印中墨滴落点定位精度检测方法及装置，属于喷墨打印误差检测技术领域。方法包括：计算喷头上各喷孔投影至打印方向时的落点位置，其中，喷头上各喷孔按照M行N列的形式排列分布；根据各所述落点位置设计全喷孔参与的试打印点阵图案，并进行打印；获取打印结果，并计算每个墨滴对应的落点偏差值，得到各喷孔喷射的墨滴落点偏差集；若所述墨滴落点偏差集分散情况大于预设阈值，则剔除对应的喷孔；基于剩余喷孔对应的墨滴落点偏差集，得到喷头整体偏置补偿值，完成墨滴落点定位精度检测。本发明可检测喷墨打印过程中墨滴落点定位精度，尤其适用于喷墨打印制造高分辨率显示器件领域。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114536975A
公开(公告)日：2022-05-27
申请号：CN202210190282.0
申请日：2022-02-28
Applicant: 华中科技大学
IPC: B41J2/01 , B41J29/393
Abstract: 本发明公开了一种喷墨打印中墨滴落点定位精度检测方法及装置，属于喷墨打印误差检测技术领域。方法包括：计算喷头上各喷孔投影至打印方向时的落点位置，其中，喷头上各喷孔按照M行N列的形式排列分布；根据各所述落点位置设计全喷孔参与的试打印点阵图案，并进行打印；获取打印结果，并计算每个墨滴对应的落点偏差值，得到各喷孔喷射的墨滴落点偏差集；若所述墨滴落点偏差集分散情况大于预设阈值，则剔除对应的喷孔；基于剩余喷孔对应的墨滴落点偏差集，得到喷头整体偏置补偿值，完成墨滴落点定位精度检测。本发明可检测喷墨打印过程中墨滴落点定位精度，尤其适用于喷墨打印制造高分辨率显示器件领域。
-
公开(公告)号：CN113752698B
公开(公告)日：2022-07-12
申请号：CN202111010435.0
申请日：2021-08-31
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于喷墨打印技术领域，具体公开了一种用于喷墨印刷的墨滴落点精度控制方法及系统。所述方法为：1)将喷孔移至试打印区域进行试喷射，检测每个喷孔对应墨滴落点偏置值，进而获得墨滴落点整体偏置补偿值；2)使用墨滴落点整体偏置补偿值，整体补偿喷孔相对基板像素坑的位置精度；3)启动喷孔实施正式打印，在打印过程中检测每个像素坑对应墨滴落点偏差值；4)依据偏差值，一方面调整点火序列在基板移动方向上补偿位置精度，另一方面调整每个喷头在每个行程的移动距离从而在喷头移动方向上补偿位置精度。本发明可补偿喷墨打印过程中的多重误差，尤其适用于利用喷墨印刷方式制造高分辨率显示器、电子元器件之类的应用场合。
-
公开(公告)号：CN113947660A
公开(公告)日：2022-01-18
申请号：CN202111121064.3
申请日：2021-09-24
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明公开了一种适用于喷墨打印的微墨滴沉积过程观测方法，具体为：将微墨滴的沉积过程按时间顺序分为多个状态，针对每个状态设定对应的相机曝光时间及延时；向基板喷印微墨滴，启用双目相机采集预定状态下的微墨滴沉积图像，启用下视相机采集微墨滴沉积铺展后图像，得到喷印过程完整图像序列；对完整图像序列提取运动目标，进而进行三维重建，由此完成微墨滴沉积过程观测。本发明还提供了实现上述方法的装置。通过本发明，可以实现普通工业相机高帧率采图，完成多角度的微墨滴高动态实时观测与捕捉、微墨滴撞击像素坑的均匀成膜过程捕获，实现了低成本、高精度的微墨滴高动态变化的沉积过程观测。
-
公开(公告)号：CN113752698A
公开(公告)日：2021-12-07
申请号：CN202111010435.0
申请日：2021-08-31
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于喷墨打印技术领域，具体公开了一种用于喷墨印刷的墨滴落点精度控制方法及系统。所述方法为：1)将喷孔移至试打印区域进行试喷射，检测每个喷孔对应墨滴落点偏置值，进而获得墨滴落点整体偏置补偿值；2)使用墨滴落点整体偏置补偿值，整体补偿喷孔相对基板像素坑的位置精度；3)启动喷孔实施正式打印，在打印过程中检测每个像素坑对应墨滴落点偏差值；4)依据偏差值，一方面调整点火序列在基板移动方向上补偿位置精度，另一方面调整每个喷头在每个行程的移动距离从而在喷头移动方向上补偿位置精度。本发明可补偿喷墨打印过程中的多重误差，尤其适用于利用喷墨印刷方式制造高分辨率显示器、电子元器件之类的应用场合。
-
公开(公告)号：CN113947660B
公开(公告)日：2024-07-19
申请号：CN202111121064.3
申请日：2021-09-24
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明公开了一种适用于喷墨打印的微墨滴沉积过程观测方法，具体为：将微墨滴的沉积过程按时间顺序分为多个状态，针对每个状态设定对应的相机曝光时间及延时；向基板喷印微墨滴，启用双目相机采集预定状态下的微墨滴沉积图像，启用下视相机采集微墨滴沉积铺展后图像，得到喷印过程完整图像序列；对完整图像序列提取运动目标，进而进行三维重建，由此完成微墨滴沉积过程观测。本发明还提供了实现上述方法的装置。通过本发明，可以实现普通工业相机高帧率采图，完成多角度的微墨滴高动态实时观测与捕捉、微墨滴撞击像素坑的均匀成膜过程捕获，实现了低成本、高精度的微墨滴高动态变化的沉积过程观测。
-
-
-
-
-
Search Results
6
records
(took 0.042 seconds)
