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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110609392A
公开(公告)日：2019-12-24
申请号：CN201910899282.6
申请日：2019-09-23
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明公开了一种基于反射式衍射光学元件的光学成像系统及方法，包括沿着光路方向依次放置的激光器、偏振晶体、检偏器、反射式衍射光学元件、光学成像处理模块；本发明通过采用反射式衍射光学元件，基于按照复合相位信息分布的液晶分子对线偏光进行相位调制，生成按照目标光场分布的多束聚焦光，并使其与零级光在光轴上处于不同位置从而使聚焦面避开零级光的干扰；本发明系统结构简单，操作灵活，成本低，可扩展延伸性强，不仅大大提高了光学系统的光能利用率，而且最终的光束成像和加工效果较好。
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公开(公告)号：CN110554510A
公开(公告)日：2019-12-10
申请号：CN201910899147.1
申请日：2019-09-23
Applicant: 华中科技大学
IPC: G02B27/42
Abstract: 本发明公开了一种透射式衍射光学元件及其光学系统，属于光场调控领域，包括：光源和透射式衍射光学元件；光源与衍射光学元件放置于同一光轴上，且透射式衍射光学元件位于光源出射光的方向；光源用于提供入射光；复合相位信息用于调节透射式衍射光学表面浮雕结构的高度和宽度以获取与零级光在光轴不同位置聚焦的目标光场；其中，复合相位信息包括调制相位信息和聚焦相位信息；调制相位信息用于使入射光通过透射式衍射光学元件后生成目标光场；聚焦相位信息用于使目标光场和零级光在光轴上不同位置聚焦。本发明采用聚焦相位使得目标光场和零级光在光轴不同位置聚焦，即使存在零级光也不影响目标光场的成像效果。
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公开(公告)号：CN217122085U
公开(公告)日：2022-08-05
申请号：CN202220246414.2
申请日：2022-01-30
Applicant: 华中科技大学
IPC: B23K26/073 , B23K26/21 , B23K26/70
Abstract: 本实用新型公开了一种生成多焦点可调环光斑的激光焊接系统，属于激光加工领域。沿着光路传输方向依次包括：准直单元、相位调制单元及光学成像处理单元；所述准直单元用于对入射激光进行准直得到准直光束；所述相位调制单元上加载按照目标场光斑的横纵坐标、环半径及能量分布得到的相位，用于对准直光束进行相位调制；所述光学成像处理单元用于对相位调制后的光束成像，并调节和控制最终成像位置和成像大小。本实用新型能够产生多焦点的并行环形光斑，并且并行环形光斑的位置、能量和环形半径同时可调。
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公开(公告)号：CN210666225U
公开(公告)日：2020-06-02
申请号：CN201921591582.X
申请日：2019-09-23
Applicant: 华中科技大学
IPC: G02B27/42
Abstract: 本实用新型公开了一种透射式衍射光学元件的光学成像系统，属于光场调控领域，包括：光源和透射式衍射光学元件；光源与衍射光学元件放置于同一光轴上，且透射式衍射光学元件位于光源出射光的方向；光源用于提供入射光；复合相位信息用于调节透射式衍射光学表面浮雕结构的高度和宽度以获取与零级光在光轴不同位置聚焦的目标光场；其中，复合相位信息包括调制相位信息和聚焦相位信息；调制相位信息用于使入射光通过透射式衍射光学元件后生成目标光场；聚焦相位信息用于使目标光场和零级光在光轴上不同位置聚焦。本实用新型采用聚焦相位使得目标光场和零级光在光轴不同位置聚焦，即使存在零级光也不影响目标光场的成像效果。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN210573037U
公开(公告)日：2020-05-19
申请号：CN201921583714.4
申请日：2019-09-23
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本实用新型公开了一种基于反射式衍射光学元件的光学成像系统，包括沿着光路方向依次放置的激光器、偏振晶体、检偏器、反射式衍射光学元件、光学成像处理模块；本实用新型通过采用反射式衍射光学元件，基于按照复合相位信息分布的液晶分子对线偏光进行相位调制，生成按照目标光场分布的多束聚焦光，并使其与零级光在光轴上处于不同位置从而使聚焦面避开零级光的干扰；本实用新型系统结构简单，操作灵活，成本低，可扩展延伸性强，不仅大大提高了光学系统的光能利用率，而且最终的光束成像和加工效果较好。
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