一种变斑激光熔覆装置
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN106513987B

    公开(公告)日:2018-08-17

    申请号:CN201611217009.3

    申请日:2016-12-26

    Abstract: 本发明公开了一种变斑激光熔覆装置,包括可调变光斑镜组和可调变粉斑激光喷头;其可调变光斑镜组包括自适应反射镜和聚焦镜;其中自适应反射镜可以连续改变表面曲率从而改变输出光斑大小,可调变粉斑激光喷头则用于配合自适应反射镜输出的光斑大小以不同半径的输出管道进行粉末输送,从而实现可调变斑熔覆;本发明提供的这种变斑激光熔覆装置结构简单,操作方便,光斑变化范围大,调节精度高,响应快,能够输出不同大小的粉斑,光粉耦合效率高,有效减少粉末浪费,可用于多种激光熔覆加工。

    一种反射式激光光束整形装置

    公开(公告)号:CN106940481B

    公开(公告)日:2022-12-02

    申请号:CN201710350039.X

    申请日:2017-05-18

    Abstract: 本发明公开了一种反射式激光光束整形装置,包括相位调制镜、光阑,光阑位于相位调制镜输出第一激光的焦点处,相位调制镜用于对入射激光进行相位调制处理后再进行聚焦处理输出第一激光,第一激光的中心主峰的相位与第一激光的次级小峰的相位相同;光阑对第一激光的模式进行筛选,使其中心主峰能够通过,而次级小峰被滤过。该装置还包括准直镜,准直镜用于对通过光阑的主峰光束的发散角进行压缩,得到发散角小、模式单一的激光光束。本发明提供的反射式激光光束整形装置,具有结构简单、调节方便的特点,且经过整形后激光具有高功率和高质量,可应用于激光切割、焊接、熔覆、打孔等多种激光加工工艺。

    一种透射式激光光束整形系统

    公开(公告)号:CN106526872B

    公开(公告)日:2022-09-20

    申请号:CN201611143506.3

    申请日:2016-12-13

    Abstract: 本发明公开了一种透射式激光光束整形系统,包括透射式相位调制镜、空间滤波镜及透射式准直镜。透射式相位调制镜入射面为高度不同的凹凸间隔同心圆环面,相邻的凸面与凹面对应激光束相邻的峰,激光的出射面为凸面;空间滤波镜对透射式相位调制镜的输出光束的模式进行筛选,使其中心主峰光束能通过,次级小峰被反射吸收;透射式准直镜对经过选择的主峰光束的发散角进压缩,得到模式单一、发散角小、能量损耗小的激光;本发明提供的这种透射式激光光束整形系统具有结构简单、调整方便的特点,得到的光束基模功率高,可适用于激光切割、焊接、打孔等多种激光加工过程。

    一种透射式激光光束整形系统

    公开(公告)号:CN106526872A

    公开(公告)日:2017-03-22

    申请号:CN201611143506.3

    申请日:2016-12-13

    CPC classification number: G02B27/0927 G02B27/0938

    Abstract: 本发明公开了一种透射式激光光束整形系统,包括透射式相位调制镜、空间滤波镜及透射式准直镜。透射式相位调制镜入射面为高度不同的凹凸间隔同心圆环面,相邻的凸面与凹面对应激光束相邻的峰,激光的出射面为凸面;空间滤波镜对透射式相位调制镜的输出光束的模式进行筛选,使其中心主峰光束能通过,次级小峰被反射吸收;透射式准直镜对经过选择的主峰光束的发散角进压缩,得到模式单一、发散角小、能量损耗小的激光;本发明提供的这种透射式激光光束整形系统具有结构简单、调整方便的特点,得到的光束基模功率高,可适用于激光切割、焊接、打孔等多种激光加工过程。

    一种半导体激光器
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105846311A

    公开(公告)日:2016-08-10

    申请号:CN201610344108.1

    申请日:2016-05-23

    CPC classification number: H01S5/06 H01S5/14

    Abstract: 本发明公开了一种半导体激光器,包括半导体激光器堆栈和光路整形单元;半导体激光器堆栈由多个半导体激光巴条构成,光路整形单元包括第一准直镜和第二准直镜;第一准直镜为条状柱面透镜,用于对激光光束快轴方向进行准直;第二准直镜由柱面镜与球面镜构成,用于对快轴和慢轴两个方向的激光光束进行准直;本发明克服了半导体激光单元或半导体激光阵列的快、慢轴光束宽度和发散角不一致、空间合束后的填充因子低、光学系统结构复杂,加工昂贵、光束质量差、光束分布不均匀等问题,有效改善半导体激光器输出激光光束的质量,同时简化了光路整形过程,并可输出多样化的光斑。

    一种半导体激光器
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105846311B

    公开(公告)日:2019-03-05

    申请号:CN201610344108.1

    申请日:2016-05-23

    Abstract: 本发明公开了一种半导体激光器,包括半导体激光器堆栈和光路整形单元;半导体激光器堆栈由多个半导体激光巴条构成,光路整形单元包括第一准直镜和第二准直镜;第一准直镜为条状柱面透镜,用于对激光光束快轴方向进行准直;第二准直镜由柱面镜与球面镜构成,用于对快轴和慢轴两个方向的激光光束进行准直;本发明克服了半导体激光单元或半导体激光阵列的快、慢轴光束宽度和发散角不一致、空间合束后的填充因子低、光学系统结构复杂,加工昂贵、光束质量差、光束分布不均匀等问题,有效改善半导体激光器输出激光光束的质量,同时简化了光路整形过程,并可输出多样化的光斑。

    一种变斑激光熔覆装置
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106513987A

    公开(公告)日:2017-03-22

    申请号:CN201611217009.3

    申请日:2016-12-26

    Abstract: 本发明公开了一种变斑激光熔覆装置,包括可调变光斑镜组和可调变粉斑激光喷头;其可调变光斑镜组包括自适应反射镜和聚焦镜;其中自适应反射镜可以连续改变表面曲率从而改变输出光斑大小,可调变粉斑激光喷头则用于配合自适应反射镜输出的光斑大小以不同半径的输出管道进行粉末输送,从而实现可调变斑熔覆;本发明提供的这种变斑激光熔覆装置结构简单,操作方便,光斑变化范围大,调节精度高,响应快,能够输出不同大小的粉斑,光粉耦合效率高,有效减少粉末浪费,可用于多种激光熔覆加工。

    一种反射式激光光束整形装置

    公开(公告)号:CN106940481A

    公开(公告)日:2017-07-11

    申请号:CN201710350039.X

    申请日:2017-05-18

    CPC classification number: G02B27/0977

    Abstract: 本发明公开了一种反射式激光光束整形装置,包括相位调制镜、光阑,光阑位于相位调制镜输出第一激光的焦点处,相位调制镜用于对入射激光进行相位调制处理后再进行聚焦处理输出第一激光,第一激光的中心主峰的相位与第一激光的次级小峰的相位相同;光阑对第一激光的模式进行筛选,使其中心主峰能够通过,而次级小峰被滤过。该装置还包括准直镜,准直镜用于对通过光阑的主峰光束的发散角进行压缩,得到发散角小、模式单一的激光光束。本发明提供的反射式激光光束整形装置,具有结构简单、调节方便的特点,且经过整形后激光具有高功率和高质量,可应用于激光切割、焊接、熔覆、打孔等多种激光加工工艺。

    一种半导体激光器
    9.
    实用新型

    公开(公告)号:CN205790934U

    公开(公告)日:2016-12-07

    申请号:CN201620474368.6

    申请日:2016-05-23

    Abstract: 本实用新型公开了一种半导体激光器,包括半导体激光器堆栈和光路整形单元;半导体激光器堆栈由多个半导体激光巴条构成,光路整形单元包括第一准直镜和第二准直镜;第一准直镜为条状柱面透镜,用于对激光光束快轴方向进行准直;第二准直镜由柱面镜与球面镜构成,用于对快轴和慢轴两个方向的激光光束进行准直;本实用新型克服了半导体激光单元或半导体激光阵列的快、慢轴光束宽度和发散角不一致、空间合束后的填充因子低、光学系统结构复杂,加工昂贵、光束质量差、光束分布不均匀等问题,有效改善半导体激光器输出激光光束的质量,同时简化了光路整形过程,并可输出多样化的光斑。

    一种变斑激光熔覆装置
    10.
    实用新型

    公开(公告)号:CN206335246U

    公开(公告)日:2017-07-18

    申请号:CN201621436080.6

    申请日:2016-12-26

    Abstract: 本实用新型公开了一种变斑激光熔覆装置,包括可调变光斑镜组和可调变粉斑激光喷头;其可调变光斑镜组包括自适应反射镜和聚焦镜;其中自适应反射镜可以连续改变表面曲率从而改变输出光斑大小,可调变粉斑激光喷头则用于配合自适应反射镜输出的光斑大小以不同半径的输出管道进行粉末输送,从而实现可调变斑熔覆;本实用新型提供的这种变斑激光熔覆装置结构简单,操作方便,光斑变化范围大,调节精度高,响应快,能够输出不同大小的粉斑,光粉耦合效率高,有效减少粉末浪费,可用于多种激光熔覆加工。

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