公开(公告)号：CN108819218A

公开(公告)日：2018-11-16

申请号：CN201810533388.X

申请日：2018-05-29

Applicant: 华中农业大学

Inventor： 吴擎 ,  许泽洲 ,  黄伟军 ,  鲍秀兰

IPC: B29C64/112 ,  B29C64/209 ,  B29C64/393 ,  B33Y10/00 ,  B33Y30/00 ,  B33Y50/02

Abstract: 本发明公开了一种电流体直写喷嘴，包括墨液供给单元、墨液进口、中部喷嘴层、拉伸电极层、电压发生器、喷嘴延伸层、射流保护层、荷电层、下部喷嘴、屏蔽层和斜视观测相机，下部喷嘴内壁设置有抑制电极阵列，还公开了一种电流体直写喷嘴的控制方法，本发明实现射流直写过程中的高精度控制，保证结构的均匀和喷射的稳定。

公开(公告)号：CN108819218B

公开(公告)日：2019-11-01

申请号：CN201810533388.X

申请日：2018-05-29

Applicant: 华中农业大学

Inventor： 吴擎 ,  许泽洲 ,  黄伟军 ,  鲍秀兰

IPC: B29C64/112 ,  B29C64/209 ,  B29C64/393 ,  B33Y10/00 ,  B33Y30/00 ,  B33Y50/02

Abstract: 本发明公开了一种电流体直写喷嘴，包括墨液供给单元、墨液进口、中部喷嘴层、拉伸电极层、电压发生器、喷嘴延伸层、射流保护层、荷电层、下部喷嘴、屏蔽层和斜视观测相机，下部喷嘴内壁设置有抑制电极阵列，还公开了一种电流体直写喷嘴的控制方法，本发明实现射流直写过程中的高精度控制，保证结构的均匀和喷射的稳定。