公开(公告)号：CN103507322A

公开(公告)日：2014-01-15

申请号：CN201310247398.4

申请日：2013-06-20

Applicant: 北川工业株式会社

Inventor： 古田健 ,  近藤康雄 ,  古市宪亲

IPC: B32B9/04 ,  B32B15/04 ,  B32B27/06 ,  B32B27/36

Abstract: 本申请涉及透明红外线反射层叠体及其制造方法，所述透明红外线反射层叠体具有：透明的基材；包含银或银合金作为主要成分的金属层；和以夹着该金属层的方式所设置的、两层的包含以组成式NbOx所表示的铌氧化物作为主要成分的氧化物层，所述组成式NbOx的x是：1.6≤x≤1.7。基材可以是薄膜状，也可以是板状。

公开(公告)号：CN103201105B

公开(公告)日：2015-02-18

申请号：CN201180054432.5

申请日：2011-11-10

Applicant: 北川工业株式会社

Inventor： 川口康弘 ,  古田健

IPC: B32B9/00 ,  B32B7/02 ,  C23C14/08 ,  G06F3/041 ,  H01B5/14 ,  H01B13/00

CPC classification number: H05K3/067 ,  C23C14/0042 ,  C23C14/086 ,  G06F3/041 ,  H05K1/0306 ,  H05K1/09 ,  Y10T428/24802

Abstract: 透明导电膜（1）具有：由透明的树脂构成的基材膜（11）；形成在基材膜（11）的表面上的、光折射率比基材膜（11）高的高折射涂层（12）；和形成在高折射涂层（12）的表面上的、光折射率比高折射涂层（12）低的低折射涂层（13）；和形成在低折射涂层（13）的表面上的由氧化硅构成的防湿性的基底层（14）；和在基底层（14）的表面形成图案的、由光折射率比基底层（14）高的ITO构成透明配线层（15）。透明配线层（15）的ITO的微晶尺寸在9nm以下。

公开(公告)号：CN119546381A

公开(公告)日：2025-02-28

申请号：CN202380051539.7

申请日：2023-05-22

Applicant: 栗田工业株式会社 ,  国立大学法人信州大学 ,  北川工业株式会社

Inventor： 川胜孝博 ,  石井一辉 ,  安池友时 ,  远藤守信 ,  竹内健司 ,  北野宏树 ,  古田健

IPC: B01D61/10 ,  B01D63/00 ,  B01D65/02 ,  B01D71/02 ,  B01D71/10 ,  C02F1/44 ,  C02F5/00 ,  C02F5/08 ,  C02F5/10 ,  C02F5/14

Abstract: 一种逆渗透膜的运转方法，为向具有逆渗透膜元件的逆渗透膜装置中通入包含水垢成分的被处理水而获得处理水的逆渗透膜装置的运转方法，所述逆渗透膜元件包括逆渗透膜及流路材，所述逆渗透膜的致密层含有碳纳米管及纤维素纳米纤维，所述流路材含有碳纳米管，且所述逆渗透膜装置的运转方法的特征在于，向所述被处理水中添加水垢分散剂。

公开(公告)号：CN103507322B

公开(公告)日：2017-12-19

申请号：CN201310247398.4

申请日：2013-06-20

Applicant: 北川工业株式会社

Inventor： 古田健 ,  近藤康雄 ,  古市宪亲

IPC: B32B9/04 ,  B32B15/04 ,  B32B27/06 ,  B32B27/36

Abstract: 本申请涉及透明红外线反射层叠体及其制造方法，所述透明红外线反射层叠体具有：透明的基材；包含银或银合金作为主要成分的金属层；和以夹着该金属层的方式所设置的、两层的包含以组成式NbOx所表示的铌氧化物作为主要成分的氧化物层，所述组成式NbOx的x是：1.6≤x≤1.7。基材可以是薄膜状，也可以是板状。

公开(公告)号：CN115136032A

公开(公告)日：2022-09-30

申请号：CN202180014966.9

申请日：2021-02-08

Applicant: 北川工业株式会社

Inventor： 鹫野真也 ,  古田健 ,  田村丈

IPC: G02B1/11

Abstract: 本发明提供一种低硬度且抑制了与被粘物之间形成空气层的黑色弹性体成型体。本发明的黑色弹性体成型体具备具有透光性的被粘物以能够剥离的状态粘贴的粘贴面，所述黑色弹性体成型体含有热塑性弹性体、黑色物质以及软化剂，并且所述黑色弹性体成型体的FP硬度为85以下，所述粘贴面的反射率(Ym值)为5.0％以下，所述粘贴面的表面粗糙度(Ra)为1.0μm以下，所述粘贴面的粘合力(对SUS)为1.0N/mm以上且8.0N/mm以下。

公开(公告)号：CN103201105A

公开(公告)日：2013-07-10

申请号：CN201180054432.5

申请日：2011-11-10

Applicant: 北川工业株式会社

Inventor： 川口康弘 ,  古田健

IPC: B32B9/00 ,  B32B7/02 ,  C23C14/08 ,  G06F3/041 ,  H01B5/14 ,  H01B13/00

CPC classification number: H05K3/067 ,  C23C14/0042 ,  C23C14/086 ,  G06F3/041 ,  H05K1/0306 ,  H05K1/09 ,  Y10T428/24802

Abstract: 透明导电膜（1）具有：由透明的树脂构成的基材膜（11）；形成在基材膜（11）的表面上的、光折射率比基材膜（11）高的高折射涂层（12）；和形成在高折射涂层（12）的表面上的、光折射率比高折射涂层（12）低的低折射涂层（13）；和形成在低折射涂层（13）的表面上的由氧化硅构成的防湿性的基底层（14）；和在基底层（14）的表面形成图案的、由光折射率比基底层（14）高的ITO构成透明配线层（15）。透明配线层（15）的ITO的微晶尺寸在9nm以下。