公开(公告)号：CN2641647Y

公开(公告)日：2004-09-15

申请号：CN03200903.8

申请日：2003-01-14

Applicant: 北京科技大学 ,  北京科大天宇微电子材料技术开发有限公司 ,  北京中科科仪技术发展有限责任公司

Inventor： 黄筱玲 ,  田跃 ,  邱宏 ,  李杰 ,  王凤平 ,  吴平 ,  潘礼庆 ,  罗胜 ,  刘亚琪 ,  李祥林 ,  党彦军

IPC: G01N27/04 ,  C23C14/38 ,  C23C14/52

Abstract: 本实用新型提供了一种薄膜生长过程原位动态特性监测实验装置。由真空控制部分、直流溅射镀膜部分和测量部分组成。其真空控制部分由机械泵、真空测量规和真空度显示仪表组成；直流溅射镀膜部分由镀膜用的靶材、安放衬底的衬底架和直流溅射电源组成。镀膜用的靶材和安放衬底的衬底架放置在直流溅射镀膜室中；测量部分由用于同衬底的电流输入电极相连接的电流输入接头、用于同衬底的电压输出电极相连接的电压输出接头、恒流源、电流表和电压表组成。衬底上将预先制备有电流输入电极和电压输出电极，二者的相对位置是：电流输入电极在外侧，电压输出电极在内侧。优点是：清楚地反映薄膜生长过程的动态特性，价格低廉、操作简单。