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公开(公告)号：CN1032768C
公开(公告)日：1996-09-11
申请号：CN91102584.7
申请日：1991-04-28
Applicant: 北京科技大学
Abstract: 本发明提供了一种用化学气相沉积工艺沉积可用于光学及电学领域的金刚石薄膜技术。其特征在于工作气体中含有0.1-10%的高纯氧气，0.1-10%的高纯甲烷，剩余为高纯氢气，工作气体的压力为1-100t，在金则石膜沉积过程中微波功率为100-500瓦。本发明的优点在于工艺简单、重复性强，突破了金则石薄膜的应用领域，可用于光学、电学领域。
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公开(公告)号：CN1066332A
公开(公告)日：1992-11-18
申请号：CN91102583.9
申请日：1991-04-28
Applicant: 北京科技大学
Abstract: 本发明提供了一种强激光窗口材料KCl晶体类金刚石防潮保护碳膜的制造方法，即采用高纯石墨靶在高纯氢气气氛中的直流溅控溅射方法制备类金刚石碳膜。其溅射功率为100—1200瓦，氩压为5—13Pa，并在溅射前“洗靶”。类金刚石碳膜沉积速率为5—60/min，与KCl晶体有良好的附着力。适合于千瓦级以上工业和军事高功率CO2激光KCl窗口和透镜的防潮保护膜，也适合于一般中小功率红外光学器件及其它各种红外光学材料。
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公开(公告)号：CN1066299A
公开(公告)日：1992-11-18
申请号：CN91102584.7
申请日：1991-04-28
Applicant: 北京科技大学
Abstract: 本发明提供了一种用化学气相沉积工艺沉积可用于光学及电学领域的金刚石薄膜技术。其特征在于工作气体中含有0.1—10％的高纯氧气，0.1—10％的高纯甲烷，剩余为高纯氢气，工作气体的压力为1—100τ，在金刚石膜沉积过程中微波功率为100—500瓦。本发明的优点在于工艺简单、重复性强，突破了金刚石薄膜的应用领域，可用于光学、电学领域。
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公开(公告)号：CN1024481C
公开(公告)日：1994-05-11
申请号：CN91102583.9
申请日：1991-04-28
Applicant: 北京科技大学
Abstract: 本发明提供了一种强激光窗口材料KCL晶体类金刚石防潮保护碳膜的制造方法，即采用高纯石墨靶在高纯氢气气氛中的直流溅控溅射方法制备类金刚石碳膜。其溅射功率为100-1200瓦，氩压为5-13Pa。并在溅射前“洗靶”。类金刚石碳膜沉积速率为5-60A/min，与KCL晶体有良好的附着力。适合于千瓦级以上工业和军事高功率CO2激光KCL窗口和透镜的防潮保护膜。也适合于一般中小功率红外光学器件及其它各种红外光学材料。
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