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公开(公告)号:CN101429019A
公开(公告)日:2009-05-13
申请号:CN200810238963.X
申请日:2008-12-08
Applicant: 北京科技大学
IPC: C04B35/45 , C04B35/622 , H01B12/00
CPC classification number: Y02E40/64
Abstract: 一种提高单畴YBCO超导块临界电流的方法,属于功能材料领域。其特征是在单畴YBCO超导块先驱粉中掺杂粒径20~100nm的SiO2纳米粉末,将SiO2纳米粉末按相对于YBCO超导块先驱粉的0.02~1wt%的比例加入该先驱粉末中,经球磨混合均匀后,用单轴模压成型,再采用顶部籽晶辅助熔融织构生长工艺(TSMTG)生成单畴结构的YBCO超导块。SiO2纳米粉末的制备工艺为:将正硅酸四乙酯、无水乙醇和去离子水按体积比1∶1-3∶1-3配成清澈透明溶液,经水浴、搅拌形成乳白色凝胶;再经形成干凝胶后研磨成细粉,经400-700℃焙烧0.5-2.5小时即得到粒径20~100nm的SiO2纳米粉末。本发明有效提高了单畴YBCO超导块材宽场范围内的临界电流。