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公开(公告)号:CN110629191A
公开(公告)日:2019-12-31
申请号:CN201911061281.0
申请日:2019-11-01
IPC: C23C16/26 , C23C16/54 , C01B32/186
Abstract: 本发明提供了一种石墨烯薄膜卷对卷生产装置及方法,装置包括真空腔、真空泵组件以及工艺气体通入组件,还包括至少一监测组件以及参数控制组件,真空腔包括依次连通的放卷腔、生长腔和收卷腔,其中一个监测组件连接于生长腔,用以获得位于生长腔内的石墨烯薄膜的第一表征参数,并将第一表征参数与一第一设定表征参数比较获得一第一比较结果;参数控制组件连接于至少一监测组件,用以响应第一比较结果,并调控各项工艺气体通入量及比例和/或所述生长腔温度和/或生长基底运动速度和/或所述生长腔内压强,以使第一表征参数等于第一设定表征参数。
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公开(公告)号:CN213013060U
公开(公告)日:2021-04-20
申请号:CN202021670892.3
申请日:2020-08-12
IPC: C23C8/12 , B65H23/038 , B65H23/26 , B65H18/10
Abstract: 本实用新型提供一种铜箔的预处理装备,包括:放卷装置,用于输送铜箔;收卷装置,用于卷绕并回收铜箔;预氧化装置,分别连接所述放卷装置和所述收卷装置,用于对铜箔进行氧化处理;以及控制组件,用于控制所述放卷装置、所述预氧化装置以及所述收卷装置的运行参数。本实用新型的预处理装备能够为卷对卷动态生长石墨烯薄膜稳定地提供氧化均匀的铜箔基底,以一定程度上消除工业铜箔出厂状态对石墨烯生产工艺稳定性的影响。
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公开(公告)号:CN211394617U
公开(公告)日:2020-09-01
申请号:CN201921870689.8
申请日:2019-11-01
IPC: C23C16/26 , C23C16/54 , C01B32/186
Abstract: 本实用新型提供了一种石墨烯薄膜卷对卷生产装置,包括真空腔、真空泵组件以及工艺气体通入组件,还包括至少一监测组件以及参数控制组件,真空腔包括依次连通的放卷腔、生长腔和收卷腔,其中一个监测组件连接于生长腔,用以获得位于生长腔内的石墨烯薄膜的第一表征参数,并将第一表征参数与一第一设定表征参数比较获得一第一比较结果;参数控制组件连接于至少一监测组件,用以响应第一比较结果,并调控各项工艺气体通入量及比例和/或所述生长腔温度和/或生长基底运动速度和/或所述生长腔内压强,以使第一表征参数等于第一设定表征参数。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号:CN211299334U
公开(公告)日:2020-08-21
申请号:CN201922096983.4
申请日:2019-11-27
Abstract: 本实用新型提供一种展示装置,用以展示一带状产品,带状产品的两端分别卷绕于第一卷轴和第二卷轴,带状产品的位于第一卷轴和第二卷轴之间的部分为被展示区域,展示装置包括展示面板和两个支撑机构;展示面板的第一表面用于支撑带状产品的被展示区域;两个支撑机构分别设于展示面板的左右两侧,每个支撑机构包括支撑柱,支撑柱的轴线平行于展示面板的第一表面,当第一卷轴和第二卷轴分别套设于两个支撑柱上时,带状产品的被展示区域贴合于展示面板的第一表面。
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