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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111428340A
公开(公告)日：2020-07-17
申请号：CN202010112421.9
申请日：2020-02-24
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明涉及一种基于遗传优化的集成光子带通滤波器的设计方法，属于微纳光子学器件技术领域。利用物理场仿真软件的模式分析模块，采用等效折射率的方法将三维模型等效为二维模型，选定器件整体形状和结构单元形状，用等距网格对器件整体划分，进行遗传优化操作，通过输出的最佳结构单元确定带通滤波器的结构。所述方法设计大大提升了设计效率，制造出的带通滤波器与传统的宏观光学器件相比尺寸超小，集成度高；性能良好，线型优，带宽大，滚降范围较小；指标均满足当前微纳加工的要求。所述方法的使用，可以使研究者更专注于器件的级联应用以及对器件内在机制的探究，为未来光处理、光通讯的发展提供了备选方案。
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公开(公告)号：CN111428340B
公开(公告)日：2022-04-08
申请号：CN202010112421.9
申请日：2020-02-24
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明涉及一种基于遗传优化的集成光子带通滤波器的设计方法，属于微纳光子学器件技术领域。利用物理场仿真软件的模式分析模块，采用等效折射率的方法将三维模型等效为二维模型，选定器件整体形状和结构单元形状，用等距网格对器件整体划分，进行遗传优化操作，通过输出的最佳结构单元确定带通滤波器的结构。所述方法设计大大提升了设计效率，制造出的带通滤波器与传统的宏观光学器件相比尺寸超小，集成度高；性能良好，线型优，带宽大，滚降范围较小；指标均满足当前微纳加工的要求。所述方法的使用，可以使研究者更专注于器件的级联应用以及对器件内在机制的探究，为未来光处理、光通讯的发展提供了备选方案。
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公开(公告)号：CN114839771B
公开(公告)日：2023-04-21
申请号：CN202210532133.8
申请日：2022-04-24
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明公开的一种基于超颖表面的微型大视场局部放大光学系统，属于微型光学成像技术领域。本发明包括微型大视场前物镜光学系统、基于超颖表面光学元件的微型局部放大光学系统、微型中继成像光学系统、光电探测器。入射光线经过微型大视场前物镜光学系统会聚到基于超颖表面光学元件的微型局部放大光学系统上，光线分别同时经过基于超颖表面局部放大区域和非放大区域产生两种不同放大倍率的像，即得到经过调制放大的像和未经调制的目标区域之外的像，所述两种不同放大倍率的像再经过微型中继成像光学系统，聚焦在光电探测器上，实现对大视场范围内目标进行不同放大倍率成像。本发明具有的成像效果好、小型化和集成化成像的优点。
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公开(公告)号：CN114839771A
公开(公告)日：2022-08-02
申请号：CN202210532133.8
申请日：2022-04-24
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明公开的一种基于超颖表面的微型大视场局部放大光学系统，属于微型光学成像技术领域。本发明包括微型大视场前物镜光学系统、基于超颖表面光学元件的微型局部放大光学系统、微型中继成像光学系统、光电探测器。入射光线经过微型大视场前物镜光学系统会聚到基于超颖表面光学元件的微型局部放大光学系统上，光线分别同时经过基于超颖表面局部放大区域和非放大区域产生两种不同放大倍率的像，即得到经过调制放大的像和未经调制的目标区域之外的像，所述两种不同放大倍率的像再经过微型中继成像光学系统，聚焦在光电探测器上，实现对大视场范围内目标进行不同放大倍率成像。本发明具有的成像效果好、小型化和集成化成像的优点。
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公开(公告)号：CN114689173A
公开(公告)日：2022-07-01
申请号：CN202210347185.8
申请日：2022-04-01
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明公开的一种基于超颖表面的高衍射效率反射式微型成像光谱仪，属于集成光电子成像领域。本发明通过改变超颖表面的纳米柱占空比和旋转角度，能够对入射光任意衍射级次进行调制，实现改变衍射角并提高衍射效率。通过改变纳米柱的几何尺寸实现改变入射光和出射光传输相位，矫正光学像差。入射光经过基于超颖表面的高效率反射式色散元件后，被色散分离成单波段光谱，不同波段光以不同衍射角出射至基于超颖表面相位型反射式光学元件和基于超颖表面相位型透射式光学元件。通过所述相位型反射式光学元件和相位型透射式光学元件的光线最终成像在光电探测器上。本发明能够实现高光谱分辨率成像并提高衍射效率，使得成像光谱仪的关键技术参数有效提升。
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