公开(公告)号：CN113204079B

公开(公告)日：2022-07-15

申请号：CN202110511479.5

申请日：2021-05-11

Applicant: 北京理工大学

Inventor： 代俊 ,  张崇飞 ,  谢晋 ,  王齐伟 ,  熊壮 ,  唐彬 ,  刘莹 ,  邵瑞文 ,  董伟康

IPC: G02B6/35 ,  G06F30/23

Abstract: 本发明涉及一种MOEMS光开关抗高过载结构的网格设计方法。包括以下内容：MOEMS光开关由器件层(包括输入光纤、输出光纤、可动式微镜、电热保险机构和电热驱动机构)、埋氧层和衬底层组成。衬底层被设计成镂空的网格状结构，在不影响器件层可动式微镜运动的前提下为器件层提供一种限位止挡结构，当MOEMS光开关受到垂直于器件层表面的高过载冲击时，衬底层的网格状结构可以限制可动式微镜、电热保险机构和电热驱动机构该方向上的运动，防止其因为变形过大而发生断裂，对器件层起到了限位保护作用。本发明要解决的技术问题为：提高MOEMS光开关的抗高过载能力，具有以下优点：(1)抗过载能力强；(2)结构尺寸小；(3)工作稳定、可靠性好。

公开(公告)号：CN113204079A

公开(公告)日：2021-08-03

申请号：CN202110511479.5

申请日：2021-05-11

Applicant: 北京理工大学

Inventor： 代俊 ,  张崇飞 ,  谢晋 ,  王齐伟 ,  熊壮 ,  唐彬 ,  刘莹 ,  邵瑞文 ,  董伟康

IPC: G02B6/35 ,  G06F30/23

Abstract: 本发明涉及一种MOEMS光开关抗高过载结构的网格设计方法。包括以下内容：该光开关结构包含器件层(1)(包括输入光纤、输出光纤、可动式微镜、电热保险机构、电热驱动机构)、埋氧层(2)、衬底层(3)，其特征在于：将光开关的衬底层设计成镂空的网格形状，光开关结构中器件层的可动式微镜与衬底层之间有0.5μm的微小间隙，当光开关受到垂直器件层上表面的高过载冲击时，衬底层的抗过载网格可以有效的避免形变应力的集中、同时最大程度的减少受到的最大形变应力，有效保护器件层不会因高过载而发生变形，从而避免光开关结构的损坏。本发明对MOEMS光开关装置进行了结构优化设计，提高了光开关的抗高过载性能，推动了光开关在引信全电子安全系统中的运用。