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公开(公告)号：CN103317393B
公开(公告)日：2015-06-17
申请号：CN201310214081.0
申请日：2013-05-31
Applicant: 北京理工大学
IPC: B24B1/00
Abstract: 一种薄层流体式低应力抛光装置，属于超精密光学表面加工领域。包括密封工作舱、转台、阳极板、阳极探头、阴极平台、工件、第一导管、升压泵、升降台、第二导管、塑形嘴、液体收集装置等。工作时，将工件固定于转台，阳极板或阳极探头和阴极平台之间产生电场；电流变抛光液经搅拌均匀后由升压泵升压，流经第一、第二导管进入液体收集装置；在压力的作用下，液体流经塑形嘴进入薄层区域，在流动动力和剪切力的作用下，实现表面材料去除。本发明解决了薄型光学元件由于较大正向压力易导致工件破碎的问题，同时改善了小工具加工易导致中高频误差残留的情况，在高精度、无亚表面损伤、中高频可控的光学元件加工中发挥重要的作用。
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公开(公告)号：CN103639903A
公开(公告)日：2014-03-19
申请号：CN201310606598.4
申请日：2013-11-25
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明为三向关联调整磁射流体加工装置，公开了属于精密光学表面加工领域的一种加工工具。包括旋转支架、支撑架、驱动臂、从动臂、齿轮组、摩擦片、电磁铁、主轴、蜗轮蜗杆、喷头壳体等。蜗轮蜗杆安装在支撑架中；驱动臂和从动臂安装在支撑架两侧；摆臂齿轮组位于从动臂上；喷头壳体和从动臂连接在一起。偏摆调节时，电磁铁通电带动摩擦片使旋转支架和主轴分离；主轴带动蜗轮蜗杆使驱动臂和从动臂偏摆，带动摆臂齿轮组的转动，完喷头向相反方向偏摆相同的角度操作，同时实现水平和垂直方向的偏移。本发明装置能够完成多种喷射方式，同时实现喷头偏摆、水平偏移和垂直偏移三个方向的关联调整，有效解决了传统喷头结构调节复杂，偏摆角度和偏移量关联精度差等问题，适用于复杂光学表面的加工。
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公开(公告)号：CN103317413A
公开(公告)日：2013-09-25
申请号：CN201310278084.0
申请日：2013-07-04
Applicant: 北京理工大学
IPC: B24B13/00
Abstract: 本发明公开了一种属于精密光学表面加工领域的抛光方法及装置。本发明的装置中工具头数控台和工件数控台与床身固定；工具头支架背面安装在工具头数控台上，上端通过电机支架固定有电机，内侧与电磁自激振动装置的外壳固定；电磁自激振动装置内部转动部件上端与电机转子下端固定，下端与延长柱上端固定；延长柱上套有高压集电环，底部安装有电场发生装置；载物台安装于工件数控台上。外部引入的高压电场使电场发生装置附近的电流变抛光液发生电流变效应，形成具有一定去除能力的柔性抛光头，并在电机和电磁自激振动装置的带动下旋转和振动，实现抛光。本发明装置结构紧凑、简单、操作方便，特别适合于小曲率曲面的高效、高精度加工。
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公开(公告)号：CN102152242B
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：CN201010622463.3
申请日：2010-12-28
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明公开了属于精密光学表面加工领域的一种抛光工具。包括支架、旋转接头、电机、皮带轮、皮带、空心轴滑环、轴、转接板、连接槽、燕尾槽扣件、燕尾槽滑件、喷嘴固定架、线圈、喷嘴、软管和外壳；旋转接头和电机固定于支架；电机通过皮带传动方式驱动旋转接头内轴；安装有空心轴滑环的轴和旋转接头内轴固定；用转接板将连接槽和轴固定；燕尾槽扣件与连接槽固定；喷嘴固定架和燕尾槽滑件连接；线圈、喷嘴装卡在喷嘴固定架中；轴上出口和喷嘴连通，空心轴滑环和线圈导通；外壳与支架固定。工作时，调整喷嘴姿态，电机驱动喷嘴绕轴转动，喷嘴喷出的磁流变抛光液受到通电线圈产生轴向磁场的作用，实现复合运动姿态下较远距离的精确加工。本发明适用于加工高陡度面型工件。
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公开(公告)号：CN102962776A
公开(公告)日：2013-03-13
申请号：CN201210548466.6
申请日：2012-12-17
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明公开了一种电场致流变射流抛光装置。包括工作舱、转台、机床、喷射装置、过滤器、搅拌箱、冷却装置、升压装置、导流管和电流变抛光液。所述机床具有三维直线运动；喷射装置固定在机床的水平移动轴动装置上，并和转台载上物台面相对；工作舱将喷射装置和转台载物台密封；过滤器安置在工作舱和搅拌箱之间；冷却装置安置在搅拌箱外壁；升压系统安置在喷射装置和搅拌箱之间；系统各部件通过导流管连接组成液体回路。工作时，电流变抛光液经升压装置升压并输入通电喷射装置，经喷射装置塑形并发生电流变效应形成稳定的准直射流束，对工件抛光；废液处理后循环使用。本发明结合了电流变抛光和射流抛光技术，属于光学精密加工范畴。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103639903B
公开(公告)日：2016-09-28
申请号：CN201310606598.4
申请日：2013-11-25
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明为三向关联调整磁射流体加工装置，公开了属于精密光学表面加工领域的一种加工工具。包括旋转支架、支撑架、驱动臂、从动臂、齿轮组、摩擦片、电磁铁、主轴、蜗轮蜗杆、喷头壳体等。蜗轮蜗杆安装在支撑架中；驱动臂和从动臂安装在支撑架两侧；摆臂齿轮组位于从动臂上；喷头壳体和从动臂连接在一起。偏摆调节时，电磁铁通电带动摩擦片使旋转支架和主轴分离；主轴带动蜗轮蜗杆使驱动臂和从动臂偏摆，带动摆臂齿轮组的转动，使喷头向相反方向偏摆相同的角度，同时实现水平和垂直方向的偏移。本发明装置能够完成多种喷射方式，同时实现喷头偏摆、水平偏移和垂直偏移三个方向的关联调整，有效解决了传统喷头结构调节复杂，偏摆角度和偏移量关联精度差等问题，适用于复杂光学表面的加工。
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公开(公告)号：CN102152242A
公开(公告)日：2011-08-17
申请号：CN201010622463.3
申请日：2010-12-28
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明公开了复合运动姿态磁射流体喷射抛光装置，属于精密光学表面加工领域的一种抛光工具。包括支架、旋转接头、电机、皮带轮、皮带、空心轴滑环、轴、转接板、连接槽、燕尾槽、喷嘴固定架、线圈、喷嘴、软管和外壳；旋转接头和电机固定于支架；电机通过皮带传动方式驱动旋转接头内轴；安装有空心轴滑环的轴和旋转接头内轴固定；用转接板将连接槽和轴固定；喷嘴固定架通过燕尾槽与连接槽连接；线圈、喷嘴装卡在喷嘴固定架中；轴上出口和喷嘴连通，空心轴滑环和线圈导通；外壳与支架固定。工作时，调整喷嘴姿态，电机驱动喷嘴绕轴转动，喷嘴喷出的磁流变抛光液受到通电线圈产生轴向磁场的作用，实现复合运动姿态下较远距离的精确加工。本发明适用于加工高陡度面型工件。
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公开(公告)号：CN103317413B
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201310278084.0
申请日：2013-07-04
Applicant: 北京理工大学
IPC: B24B13/00
Abstract: 本发明公开了一种属于精密光学表面加工领域的抛光方法及装置。本发明的装置中工具头数控台和工件数控台与床身固定；工具头支架背面安装在工具头数控台上，上端通过电机支架固定有电机，内侧与电磁自激振动装置的外壳固定；电磁自激振动装置内部转动部件上端与电机转子下端固定，下端与延长柱上端固定；延长柱上套有高压集电环，底部安装有电场发生装置；载物台安装于工件数控台上。外部引入的高压电场使电场发生装置附近的电流变抛光液发生电流变效应，形成具有一定去除能力的柔性抛光头，并在电机和电磁自激振动装置的带动下旋转和振动，实现抛光。本发明装置结构紧凑、简单、操作方便，特别适合于小曲率曲面的高效、高精度加工。
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公开(公告)号：CN102975124A
公开(公告)日：2013-03-20
申请号：CN201210549752.4
申请日：2012-12-17
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明公开了属于精密光学表面加工领域的一种抛光工具。包括支架、套筒、外壳、电机、电机架、转接件、转轴、轴承组件、密封组件、喷头、喷头螺母、线圈架、线圈和隔磁组件等。支架内固定有套筒；转轴通过轴承组件转动安装在套筒内，并通过密封组件与套筒实现旋转密封；利用转接件将转轴与电机转子固定，电机通过电机架固定在套筒上；利用喷头螺母将喷头固定在转轴下端；隔磁腔与腔盖配合卡紧线圈，整体通过线圈支架固定于套筒下端；外壳与套筒固定。工作时，电机驱动喷头转圈，液体通过设备内部通路经喷头喷出，再经过通电线圈产生的磁场后，抛光工件。本发明利用异形喷头旋转喷射获得比喷孔面积大的抛光斑，有效的提高了磁射流加工效率。
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公开(公告)号：CN103551925B
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201310418748.9
申请日：2013-09-13
Applicant: 北京理工大学
IPC: B24B1/00
Abstract: 本发明涉及一种叶片电极正负交替式电流变抛光装置。包括电机、联轴器、支撑杆、转轴、阳极导电圆筒、绝缘圆筒、叶片绝缘套、阴极抛光叶片、阳极抛光叶片等。阴极抛光叶片与转轴下端固定构成阴极,与阳极导电圆筒接触处用叶片绝缘套绝缘；阳极抛光叶片与阳极导电圆筒固定构成阳极，通过叶片绝缘套与转轴固定，并与阴极抛光叶片交替分布；圆环电刷置于电刷套凹槽内，并与阳极导电圆筒紧密接触。通电后，分布在阴极抛光叶片和阳极抛光叶片之间的电流变抛光液发生电流变效应，形成柔性抛光头，在叶片的带动下对工件实现抛光。本发明采用流线型叶片和交替分布的电场，实现较大的剪切速度，有效提高了电流变抛光效率。
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