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公开(公告)号：CN101793675A
公开(公告)日：2010-08-04
申请号：CN200910224059.8
申请日：2010-03-26
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明涉及一种薄膜应力在线测试系统，属于物理领域里的光学分领域。该系统包括镀膜机、应力仪、晶控仪和计算机；在所测量样品镀膜开始前，先将计算机的数据采集与处理模块初始化并设定阈值。当外部高亮度光源发出的光从应力仪的光纤入射经分光棱镜分光，通过物镜后垂直入射到样品表面，平行光被测量样品表面反射后，再经中继透镜转换成平行光，然后经哈特曼透镜阵列成像到CMOS接收器感光面，通过调节外部光源，使得光斑尽量落于CMOS感光面中心区域。当电子枪轰击坩埚中的膜料，使其激发出膜料分子，膜料分子沉积到样品表面，镀膜开始。同时计算机开始对应力仪和晶控仪的数据进行采集，实现对薄膜应力变化的实时跟踪，绘制出薄膜应力随膜厚的变化曲线。
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公开(公告)号：CN100507608C
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：CN200710177833.5
申请日：2007-11-21
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明公开了一种旋转监控片的光学薄膜自动监控系统，涉及一种薄膜产品制备过程中的监控设备。本发明包括：光源发射系统、驱动电机、工件架、晶控仪探头、监控片旋转机构、信号接收系统、信号转换系统、晶控仪、计算机、真空室和监控片。监控片旋转机构和晶控仪探头设置在真空室内，光源发射系统发出光信号，入射到真空室内，在监控片上形成光斑，由信号接收系统接收后，经过信号转换和计算机处理，监控薄膜厚度，控制材料的蒸发速率。本发明采用把监控片旋转机构设计成内环和外环，中间采用细钢丝连接，这样的结构避免了监控片旋转时对晶控仪探头的遮挡，实现了旋转监控片状态下的光控系统和晶控仪对镀膜过程的联动控制。
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公开(公告)号：CN101726471A
公开(公告)日：2010-06-09
申请号：CN200910250013.3
申请日：2009-12-01
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明涉及一种基于哈特曼传感器的薄膜应力测量装置，属于物理领域里的光学分领域。该装置包括自准直成像系统和哈特曼传感器；自准直成像系统由分光棱镜、物镜、中继透镜构成。分光棱镜为消偏振分光直角棱镜，棱镜的；物镜和中继透镜均为双胶合透镜。哈特曼传感器由哈特曼透镜阵列、CMOS接收器构成。哈特曼透镜阵列由一批焦距、口径相同的平凸透镜通过粘连、切割等手段制作而成，透镜阵列位于中继透镜的像空间。该装置能够以自适应形式避免由于镀膜设备振动而造成的较大误差，测量精度高、操作简便、价格低廉并且在线、离线均能使用。
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公开(公告)号：CN101162271A
公开(公告)日：2008-04-16
申请号：CN200710177833.5
申请日：2007-11-21
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明公开了一种旋转监控片的光学薄膜自动监控装置，涉及一种薄膜产品制备过程中的监控设备。本发明包括：光源发射系统、驱动电机、工件架、晶控仪探头、监控片旋转机构、信号接收系统、信号转换系统、晶控仪、计算机、真空室和监控片。监控片旋转机构和晶控仪探头设置在真空室内，光源发射系统发出光信号，入射到真空室内，在监控片上形成光斑，由信号接收系统接收后，经过信号转换和计算机处理，监控薄膜厚度，控制材料的蒸发速率。本发明采用把监控片旋转机构设计成内环和外环，中间采用细钢丝连接，这样的结构避免了监控片旋转时对晶控仪探头的遮挡，实现了旋转监控片状态下的光控系统和晶控仪对镀膜过程的联动控制。
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