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公开(公告)号:CN101162271A
公开(公告)日:2008-04-16
申请号:CN200710177833.5
申请日:2007-11-21
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明公开了一种旋转监控片的光学薄膜自动监控装置,涉及一种薄膜产品制备过程中的监控设备。本发明包括:光源发射系统、驱动电机、工件架、晶控仪探头、监控片旋转机构、信号接收系统、信号转换系统、晶控仪、计算机、真空室和监控片。监控片旋转机构和晶控仪探头设置在真空室内,光源发射系统发出光信号,入射到真空室内,在监控片上形成光斑,由信号接收系统接收后,经过信号转换和计算机处理,监控薄膜厚度,控制材料的蒸发速率。本发明采用把监控片旋转机构设计成内环和外环,中间采用细钢丝连接,这样的结构避免了监控片旋转时对晶控仪探头的遮挡,实现了旋转监控片状态下的光控系统和晶控仪对镀膜过程的联动控制。
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公开(公告)号:CN100507608C
公开(公告)日:2009-07-01
申请号:CN200710177833.5
申请日:2007-11-21
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明公开了一种旋转监控片的光学薄膜自动监控系统,涉及一种薄膜产品制备过程中的监控设备。本发明包括:光源发射系统、驱动电机、工件架、晶控仪探头、监控片旋转机构、信号接收系统、信号转换系统、晶控仪、计算机、真空室和监控片。监控片旋转机构和晶控仪探头设置在真空室内,光源发射系统发出光信号,入射到真空室内,在监控片上形成光斑,由信号接收系统接收后,经过信号转换和计算机处理,监控薄膜厚度,控制材料的蒸发速率。本发明采用把监控片旋转机构设计成内环和外环,中间采用细钢丝连接,这样的结构避免了监控片旋转时对晶控仪探头的遮挡,实现了旋转监控片状态下的光控系统和晶控仪对镀膜过程的联动控制。
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