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公开(公告)号:CN111215970A
公开(公告)日:2020-06-02
申请号:CN202010078242.8
申请日:2020-01-24
Applicant: 北京理工大学
IPC: B24B1/04
Abstract: 本发明公开一种双超声辅助磁力抛光微结构模具的装置和方法,通过单独设置产生超声空化效应的超声振动装置,能够保证抛光区域产生充分的超声空化现象,增大抛光压力,同时,由于微结构模具完全浸没在抛光液中,抛光液中的纳米SiO2颗粒对模具材料也有一定抛光作用,利于模具材料的去除,提高抛光表面质量。此外,不同于现有技术中机床超声主轴垂直于待抛光工件的表面,本发明中的机床超声主轴平行于微结构模具的待抛光表面设置,通过环形永磁体的圆周面进行抛光加工,整个抛光加工区域的切向线速度从中心到边缘是一致的,因此增大了抛光加工速度,提高了加工效率。
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公开(公告)号:CN111215970B
公开(公告)日:2021-05-14
申请号:CN202010078242.8
申请日:2020-01-24
Applicant: 北京理工大学
IPC: B24B1/04
Abstract: 本发明公开一种双超声辅助磁力抛光微结构模具的装置和方法,通过单独设置产生超声空化效应的超声振动装置,能够保证抛光区域产生充分的超声空化现象,增大抛光压力,同时,由于微结构模具完全浸没在抛光液中,抛光液中的纳米SiO2颗粒对模具材料也有一定抛光作用,利于模具材料的去除,提高抛光表面质量。此外,不同于现有技术中机床超声主轴垂直于待抛光工件的表面,本发明中的机床超声主轴平行于微结构模具的待抛光表面设置,通过环形永磁体的圆周面进行抛光加工,整个抛光加工区域的切向线速度从中心到边缘是一致的,因此增大了抛光加工速度,提高了加工效率。
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