公开(公告)号：CN119535769A

公开(公告)日：2025-02-28

申请号：CN202411718417.1

申请日：2024-11-27

Applicant: 北京理工大学

Inventor： 曹英超 ,  谢会开 ,  王华 ,  徐思佳 ,  邓燿宇 ,  吴烨恺 ,  贾宜龙

IPC: G02B26/08 ,  B81C1/00 ,  B81B7/02

Abstract: 本发明公开了一种静电平板驱动微镜的制作方法，涉及驱动微镜技术领域，包括：步骤一、制作一面带有底部驱动电极的衬底；制作一面带有空腔结构的晶圆；步骤二、将晶圆带有空腔结构的一面与衬底带有底部驱动电极的一面键合；步骤三、在晶圆远离衬底的表面上制作镜面反射层和地电极焊盘；步骤四、对晶圆进行刻蚀并使得剩余材料构成镜板、外框组件、扭转梁和导热梁，镜板位于外框组件内，镜板和外框组件通过扭转梁和导热梁连接；步骤五、除去导热梁。本发明提供的静电平板驱动微镜的制作方法在大量刻蚀晶圆材料时，可通过预留的导热梁将镜板以及可动框架上的热量传递出去，进而保证刻蚀过程的正常运行，可以显著提高良品率。

公开(公告)号：CN119461230A

公开(公告)日：2025-02-18

申请号：CN202411634464.8

申请日：2024-11-15

Applicant: 北京理工大学

Inventor： 吴烨恺 ,  谢会开 ,  曹英超 ,  王震 ,  王华 ,  齐强先

IPC: B81B7/02 ,  B81B5/00 ,  B81B3/00 ,  B81B7/00 ,  B81C1/00

Abstract: 本发明公开了一种基于MEMS的面内三轴大位移致动平台及其制造方法，主要包括外框架、十字岛框架、双向梳形驱动单元、长弹簧梁和短弹簧梁，制造步骤包括：使用磁中性环路放电等离子体（NLD）各向异性刻蚀玻璃衬底上的空腔结构，使用阳极键合工艺将带有空腔结构的BF33玻璃晶圆与低阻硅晶圆键合，减薄低阻硅晶，深硅刻蚀（DRIE）低阻硅晶圆形成电隔离沟道并填充BCB材料，使用化学机械抛光（CMP）工艺去除低阻硅晶圆表面BCB，溅射金属层及剥离（lift‑off）工艺形成导线层，深硅刻蚀（DRIE）低阻硅晶圆形成最终器件。本发明的有益效果：提升器件填充率，减小尺寸，提升结构刚度，响应速度，谐振频率和散热性能，同时提供一种将微动平台与CMOS芯片异质集成的打线方法。