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公开(公告)号：CN108039497B
公开(公告)日：2020-11-06
申请号：CN201711379423.9
申请日：2017-12-20
Applicant: 北京理工大学
IPC: H01M4/88
Abstract: 本发明提出一种具有高{110}晶面份额化学气相沉积钨涂层的制备方法。利用钨{110}晶面同其 择优取向呈45°的特点，在铜基体上加工出与原表面呈45°的锯齿状凸起，常压化学气相沉积后，按照给定尺寸磨平外表面，充分暴露钨的{110}晶面，进而提高了钨表面{110}的晶面份额。此工艺可以有效提高钨涂层的{110}晶面份额至33％以上，并能在高温环境中保持晶面份额的稳定。
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公开(公告)号：CN105842038B
公开(公告)日：2019-03-26
申请号：CN201610162764.X
申请日：2016-03-21
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明涉及一种钨单晶涂层{110}晶面识别和表面份额的统计方法，属于热离子型燃料电池技术领域，特别是能够指导电化学蚀刻工艺参数的优化。本发明包括用化学腐蚀识别钨单晶{110}晶面、统计{110}晶面所占份额和用电化学法提高其所占份额三个步骤。其中，化学腐蚀方法识别晶面时所用的化学腐蚀剂由NaOH、K3Fe(CN)6和去离子水配制而成，每100ml腐蚀液中含9～12g的NaOH和8～11g的K3Fe(CN)6。根据蚀坑形貌特征识别出{110}晶面，然后通过自动变焦成像技术每2°～6°拍摄一张金相照片，统计出{110}在整个圆周上所占总度数而得到其表面份额，本发明具有操作简单方便、蚀坑清晰、辨识度高、统计方法简单易行等优点。
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公开(公告)号：CN108039497A
公开(公告)日：2018-05-15
申请号：CN201711379423.9
申请日：2017-12-20
Applicant: 北京理工大学
IPC: H01M4/88
Abstract: 本发明提出一种具有高{110}晶面份额化学气相沉积钨涂层的制备方法。利用钨{110}晶面同其 择优取向呈45°的特点，在铜基体上加工出与原表面呈45°的锯齿状凸起，常压化学气相沉积后，按照给定尺寸磨平外表面，充分暴露钨的{110}晶面，进而提高了钨表面{110}的晶面份额。此工艺可以有效提高钨涂层的{110}晶面份额至33％以上，并能在高温环境中保持晶面份额的稳定。
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公开(公告)号：CN105842038A
公开(公告)日：2016-08-10
申请号：CN201610162764.X
申请日：2016-03-21
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明涉及一种钨单晶涂层{110}晶面识别和表面份额的统计方法，属于热离子型燃料电池技术领域，特别是能够指导电化学蚀刻工艺参数的优化。本发明包括用化学腐蚀识别钨单晶{110}晶面、统计{110}晶面所占份额和用电化学法提高其所占份额三个步骤。其中，化学腐蚀方法识别晶面时所用的化学腐蚀剂由NaOH、K3Fe(CN)6和去离子水配制而成，每100ml腐蚀液中含9～12g的NaOH和8～11g的K3Fe(CN)6。根据蚀坑形貌特征识别出{110}晶面，然后通过自动变焦成像技术每2°～6°拍摄一张金相照片，统计出{110}在整个圆周上所占总度数而得到其表面份额，本发明具有操作简单方便、蚀坑清晰、辨识度高、统计方法简单易行等优点。
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