公开(公告)号：CN105159069B

公开(公告)日：2017-03-29

申请号：CN201510468170.7

申请日：2015-08-03

Applicant: 北京理工大学

Inventor： 甘明刚 ,  王力 ,  乔陟 ,  陈杰 ,  窦丽华 ,  蔡涛 ,  邓方

IPC: G05B13/04

Abstract: 本发明公开了一种压电陶瓷作动器的位移控制方法。使用本发明能够提高高精度伺服定位平台的控制精度。本发明首先对传统的PI迟滞模型进行改进，引入了两个新的参数，改进后的PI迟滞模型可以同时补偿对称性和残余的位移，且容易实现；然后，通过扰动估计器将PI迟滞补偿的误差、建模的误差以及未知的干扰这些不确定性扰动的总和实时在线地估计出来，反馈给backstepping控制器，从而可以减少backstepping控制器中常参数的数值，提高控制系统对外界干扰的鲁棒性，加强控制系统的控制效果。本发明能够保持良好的跟踪精度和鲁棒性，且整个控制系统结构简单、实施方便。

公开(公告)号：CN105159069A

公开(公告)日：2015-12-16

申请号：CN201510468170.7

申请日：2015-08-03

Applicant: 北京理工大学

Inventor： 甘明刚 ,  王力 ,  乔陟 ,  陈杰 ,  窦丽华 ,  蔡涛 ,  邓方

IPC: G05B13/04

Abstract: 本发明公开了一种压电陶瓷作动器的位移控制方法。使用本发明能够提高高精度伺服定位平台的控制精度。本发明首先对传统的PI迟滞模型进行改进，引入了两个新的参数，改进后的PI迟滞模型可以同时补偿对称性和残余的位移，且容易实现；然后，通过扰动估计器将PI迟滞补偿的误差、建模的误差以及未知的干扰这些不确定性扰动的总和实时在线地估计出来，反馈给backstepping控制器，从而可以减少backstepping控制器中常参数的数值，提高控制系统对外界干扰的鲁棒性，加强控制系统的控制效果。本发明能够保持良好的跟踪精度和鲁棒性，且整个控制系统结构简单、实施方便。